[发明专利]显示元件和显示装置在审

专利信息
申请号: 201380068026.3 申请日: 2013-12-20
公开(公告)号: CN104885007A 公开(公告)日: 2015-09-02
发明(设计)人: 今井启裕;神户诚;深山誉章;上田亮;小畑太一;田中茂树 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/1368 分类号: G02F1/1368
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;池兵
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 元件 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示元件,其特征在于,包括:

第一导电膜;

第二导电膜,其配置在所述第一导电膜的上层侧,至少一部分俯视时与所述第一导电膜重叠;

绝缘膜,其以介于所述第一导电膜与所述第二导电膜之间的方式配置,具有接触孔,该接触孔以在俯视时与所述第一导电膜和所述第二导电膜重叠的位置开口的方式形成,由此将所述第二导电膜与所述第一导电膜连接;

取向膜,其配置在所述第二导电膜的上层侧,具有俯视时与所述接触孔重叠的部分和俯视时与所述接触孔不重叠的部分;和

弯曲部,其由所述绝缘膜中的所述接触孔的开口边缘的至少一部分构成,以俯视时在内侧形成优角的方式弯曲。

2.如权利要求1所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜的所述接触孔具有:俯视时与所述第一导电膜和所述第二导电膜的至少一部分重叠的接触孔主体;和通过使所述接触孔主体的一部分扩张而形成的扩张开口部,并且,所述弯曲部由所述接触孔主体和所述扩张开口部的彼此相连的开口边缘构成,且所述扩张开口部的开口宽度比所述接触孔主体的开口宽度窄。

3.如权利要求2所述的显示元件,其特征在于:

所述第二导电膜构成由透明电极材料形成的像素电极,

所述绝缘膜构成为:所述扩张开口部通过使所述接触孔主体中的俯视时距所述像素电极的中心相对远的一侧的部分扩张而形成。

4.如权利要求2或3所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜构成为:所述扩张开口部通过使所述接触孔主体的角部扩张而形成。

5.如权利要求2~4中任一项所述的显示元件,其特征在于:

所述第二导电膜构成由透明电极材料形成的像素电极,

所述绝缘膜构成为:所述扩张开口部配置在俯视时与所述像素电极不重叠的位置。

6.如权利要求2~5中任一项所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜构成为:所述扩张开口部配置在俯视时与所述第一导电膜不重叠的位置。

7.如权利要求2~6中任一项所述的显示元件,其特征在于:

包括第三导电膜,其配置在所述第一导电膜的下层侧,至少一部分俯视时与所述第一导电膜重叠,

所述绝缘膜形成为:所述接触孔主体的至少一部分配置在俯视时与所述第三导电膜重叠的位置,所述扩张开口部配置在俯视时与所述第三导电膜不重叠的位置。

8.如权利要求7所述的显示元件,其特征在于:

所述第一导电膜至少分别构成源极电极和漏极电极,所述第三导电膜至少分别构成:俯视时分别与所述源极电极和所述漏极电极重叠的栅极电极;和配置在俯视时与所述栅极电极分离的位置的辅助电容配线,

所述绝缘膜形成为:所述接触孔主体的至少一部分配置在俯视时与所述漏极电极和所述栅极电极重叠的位置,所述扩张开口部配置在俯视时由所述栅极电极和所述辅助电容配线夹着的位置。

9.如权利要求2~8中任一项所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜形成为:当所述接触孔主体的开口宽度的最大值为Wmax时,所述扩张开口部的开口宽度为Wmax/2以下的大小。

10.如权利要求9所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜中的构成所述扩张开口部且构成所述弯曲部的开口边缘形成为其长度尺寸为Wmax/2以下的大小。

11.如权利要求2~10中任一项所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜的所述扩张开口部形成为俯视时向着远离所述接触孔主体的方向去逐渐变细的形状。

12.如权利要求1~11中任一项所述的显示元件,其特征在于:

所述绝缘膜至少包括由有机树脂材料构成的有机绝缘膜,

所述接触孔的开口边缘中的至少所述弯曲部,截面形状为分阶段地上升的形态,至少具有:相对地配置在下层侧且倾斜角度相对大的第一倾斜部;和相对地配置在上层侧且倾斜角度相对小的第二倾斜部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380068026.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top