[发明专利]用于硅晶片的可印刷的扩散阻挡层

权利要求书

1.制备可印刷的高粘度氧化物介质的方法，其特征在于通过使

a.对称和/或不对称的二-至四取代的烷氧基硅烷和烷氧基烷基硅烷，其中所使用的对称和/或不对称的二-至四取代的烷氧基硅烷和烷氧基烷基硅烷包含单个饱和或不饱和、支链或非支链的脂肪族、脂环族或芳香族基团或包含其中的不同基团，所述烷氧基硅烷和烷氧基烷基硅烷可以在烷氧基基团或烷基基团的任何位置通过选自O、N、S、Cl、Br的杂原子官能化，

与

b.强羧酸,所使用的强羧酸是来自甲酸、乙酸、草酸、三氟乙酸、单-、二-和三氯乙酸、乙醛酸、酒石酸、马来酸、丙二酸、丙酮酸、苹果酸、2-氧代戊二酸的酸，

在90℃或140℃下缩合进行基于无水溶胶-凝胶的合成并且通过受控凝胶化制备糊状的高粘度介质，

可印刷的氧化物介质通过使用铝、锗、锌、锡、钛、锆或铅的醇盐/酯、乙酸盐、氢氧化物或氧化物以及其混合物基于混杂溶胶和/或凝胶制备。

2.根据权利要求1的制备可印刷的高粘度氧化物介质的方法，其特征在于通过使

a.对称和/或不对称的二-至四取代的烷氧基硅烷和烷氧基烷基硅烷

与

b.强羧酸,

缩合进行基于无水溶胶-凝胶的合成并且通过受控凝胶化来制备在印刷后可以转化成针对磷和硼扩散的扩散阻挡层的糊状的高粘度可印刷的介质。

3.根据权利要求1或2的方法，其特征在于所述介质是糊剂。

4.根据权利要求1或2的方法，其特征在于将氧化物介质凝胶化得到高粘度、近似玻璃样的材料，并将所获得的产物通过添加合适的溶剂或溶剂混合物再溶解或借助强剪切混合设备转变成溶胶态，并且通过部分或完全结构恢复转化成均匀凝胶。

5.根据权利要求4的方法，其特征在于所述部分或完全结构恢复是凝胶化。

6.根据权利要求1或2的方法，其特征在于所述高粘度氧化物介质在不添加增稠剂的情况下配制。

7.根据权利要求1或2的方法，其特征在于制备了在至少三个月时间储存稳定的稳定混合物。

8.根据权利要求1或2的方法，其特征在于为了改善稳定性，将选自乙酰氧基三烷基硅烷、烷氧基三烷基硅烷、卤代三烷基硅烷和其衍生物的“封端剂”加入到氧化物介质中。

9.根据权利要求1-8任一项的方法制备的氧化物介质，其包含在制备期间通过使用铝、锗、锌、锡、钛、锆或铅的醇盐/酯、乙酸盐、氢氧化物或氧化物得到的SiO₂-Al₂O₃的二元或三元体系和/或更高级混合物。

10.根据权利要求1-8任一项的方法制备的可印刷的氧化物介质在用于光伏、微电子、微机械和微光学应用的硅晶片的处理方法中用于制备扩散阻挡层的用途。

11.根据权利要求1-8任一项的方法制备的氧化物介质用于制造PERC-、PERL-、PERT-、IBC-太阳能电池的用途，其中太阳能电池具有另外的结构特征。

12.根据权利要求11的用途，其中所述另外的结构特征选自MWT、EWT、选择性发射器、选择性前表面场、选择性背表面场和双面性。

13.根据权利要求1-8任一项的方法制造的氧化物介质用于生产显示器的防护玻璃上由掺杂的SiO₂组成的薄的致密玻璃层的用途，该玻璃层防止离子由防护玻璃扩散至液晶相中。