[发明专利]低辐射透明层叠体及包括该低辐射透明层叠体的建筑材料

说明书

技术领域

本发明涉及低辐射透明层叠体及包括该低辐射透明层叠体的建筑材料。

背景技术

低辐射玻璃(Low-Emissivity glass)是指包含如银(Ag)一样在红外线区域中的反射率高的金属的低辐射层被薄膜蒸敷的玻璃。这些低辐射玻璃是通过夏天反射太阳辐射热冬天保存从室内供暖器产生的红外线，从而带来建筑物的节能效果的功能性材料。

一般由溅镀机蒸敷的低辐射玻璃作为软镀式低辐射玻璃(soft low-eglass)，因与硬镀式低辐射玻璃相比耐久性(如，耐磨耗性、耐酸性)低的问题，制作双层隔热玻璃时，存在不能使涂敷面向外部露出而使用的缺点，并在制作双层隔热玻璃的过程中可能发生涂敷面容易破坏，因此，在生产工艺中需要特别注意。并且，从生产涂敷玻璃到制作双层隔热玻璃的保存期间的制约等，对于软镀式低辐射玻璃而言被成为要解决的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明的一实例提供既确保隔热性能及光学性能，又提高耐久性，从而耐磨耗性及耐刮性优秀的低辐射透明层叠体。

本发明的另一实例提供包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。

技术方案

本发明的一实例提供低辐射透明层叠体，上述低辐射透明层叠体包括：透明基材，以及涂敷层，位于上述透明基材上；上述涂敷层从上述透明基材起依次包括低辐射层、缓冲层及电介质层，上述缓冲层包含ZnSn类复合金属氮化物。

上述低辐射层的两面中至少一面层叠有低辐射保护金属层。

上述涂敷层可以在上述低辐射层的上述透明基材一侧的面包括种子(seed)层，上述种子(seed)层包含掺杂有Al的Zn类氧化物。

上述涂敷层中，作为顶部电介质层包括上述电介质层，并且在上述涂敷层与上述透明基材相接触的面，还可包括底部电介质层。

上述低辐射层的辐射率可以为约0.01至约0.3。

上述低辐射层可以包含选自包含Ag、Au、Cu、Al、Pt、离子掺杂金属氧化物及它们的组合的组中的至少一种。

上述低辐射层的厚度可以为约6nm至约25nm。

上述低辐射保护金属层在可见光范围的消光系数可以为约1.5至约3.5。

上述低辐射保护金属层可以包含选自包含Ni、Cr、Ni与Cr的合金、Ti及它们的组合的组中的至少一种。

上述低辐射保护金属层的厚度可以为约1nm至约5nm。

上述缓冲层可以包含由ZnSnN_x表示的(其中，约1.5≤x≤2.5)表示的化合物。

上述缓冲层的厚度可以为约1nm至约10nm。

上述电介质层的厚度可以为约5nm至约60nm。

上述透明基材可以为具有约90％至约100％的可见光透射率的透明基材。

上述透明基材可以为玻璃或透明塑料基板。

上述涂敷层中，作为第一缓冲层包括上述缓冲层，在上述电介质层的上部还可包括第二缓冲层，上述第二缓冲层包含ZnSn类复合金属氮化物。

本发明的另一实例提供包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。

有益效果

上述低辐射透明层叠体既可以确保隔热性能及光学特性，也提高耐磨耗性及耐刮性，从而提高软镀式低辐射软玻璃的加工性能。

附图说明

图1为表示根据本发明的一实例的低辐射透明层叠体的简要剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图详细说明本发明的实施例，使得本发明所属技术领域的普通技术人员能够容易实施本发明的实施例。本发明能够以多种不同的形态体现，但不局限于在此说明的实施例。

为了能够明确地说明本发明，省略了与说明无关的部分，在说明书全文中相同或类似的结构要素使用相同的附图标记。

图中为了明确地表示多个层及区域而放大表示了厚度。并且，图中为了便于说明，夸张地表示一部分层及区域的厚度。

以下，在基材的“上部(或下部)”或基材的“上(或下)”形成任意结构，不仅是指任意结构与上述基材的上面(或下面)相接触而形成，而且，不局限于上述基材和形成在上述基材上(或下)的任意结构之间不包括其他结构。

以下，参照图1详细说明根据本发明的一实例的低辐射透明层叠体100。