[发明专利]用于生成聚焦强电流带电粒子束的方法和装置

权利要求书

1.一种用于生成聚焦带电粒子束的方法，所述方法至少包括以下步骤：

a)生成(1100、1200)带电粒子束(10)；

b)发射(2100)激光脉冲(40)；

c)通过所述激光脉冲与靶(50)的相互作用在所述靶中生成(2200)聚焦磁场结构(60)；以及

d)使所述带电粒子束至少部分地透入(2300)所述聚焦磁场结构中。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤b)的过程中，增加所述激光脉冲(40)的激光对比度。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述激光脉冲(40)具有基本上在太瓦和约百太瓦之间的功率。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述激光脉冲(40)具有基本上在约10飞秒和约10皮秒之间的持续时间。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，在步骤c)的过程中，所述激光脉冲(40)在焦斑(52)的层面上聚焦在所述靶(50)上，并且其中，在步骤d)的过程中，所述带电粒子束(10)至少部分地穿过所述焦斑。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述靶(50)至少部分地由金属制成。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述靶(50)至少部分地由选自包括金、铜和铝的列表的金属制成。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，所述靶(50)基本上沿着在正面(51)和背面(53)之间的延伸平面(Y_T2，Z_T2)延伸，所述正面和所述背面在与所述延伸平面垂直的厚度方向(X_T2)上彼此相对且被在所述厚度方向上测量的厚度隔开，

并且，其中，在步骤d)的过程中，所述束(10)在所述厚度方向上基本上通过所述靶。

9.根据权利要求7至8中任一项所述的方法，其中，所述靶(50)的所述厚度基本上在500纳米和约100微米之间。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，生成粒子束的步骤a)包括：

发射(1100)所生成的激光脉冲(20)，以及

通过生成的所述激光脉冲和生成靶(30)的相互作用生成(1200)非聚焦粒子束(10)。

11.一种用于生成聚焦带电粒子束的装置，包括：

用于生成带电粒子束(10)的器件(21，30)；

用于发射激光脉冲(40)的激光源(21，41)；

靶(50)，所述靶用于通过所述激光脉冲与所述靶的相互作用而生成聚焦磁场结构(60)，所述带电粒子束至少部分地透入所述磁场结构中。

12.根据权利要求11所述的用于生成聚焦带电粒子束的装置，还包括用于增加激光对比度以增加所述激光脉冲(40)的所述激光对比度的装置(42)。

13.根据权利要求11或12所述的装置，其中，所述用于生成带电粒子束(10)的器件包括：

用于发射生成的激光脉冲(20)的激光源(21，41)；以及

生成靶(30)，所述生成靶用于当所述生成的激光脉冲与所述生成靶(30)相互作用时生成带电粒子束(10)。