[发明专利]无水粉-液颗粒在审
| 申请号: | 201380067321.7 | 申请日: | 2013-12-17 |
| 公开(公告)号: | CN104870083A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
| 发明(设计)人: | A·法西;孙鹰 | 申请(专利权)人: | 强生消费者公司 |
| 主分类号: | B01J13/02 | 分类号: | B01J13/02 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张静;江磊 |
| 地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 水粉 颗粒 | ||
本发明涉及包含由含有疏水性颗粒的壳围绕的液核的粉-液颗粒,该液核基本上不含水而包含极性液体,该极性液体具有至少24%的表面极性百分比。颗粒在干燥形式下稳定而在经受剪切时快速转化成液体或膏状形式。它们可有利地与其他成分特别是在水存在下不稳定的那些成分配制成个人护理组合物。
背景技术
已知的是,在疏水性粉末诸如疏水性二氧化硅粉末(有机硅涂布的二氧化硅粉末)存在下,水可分散成细小液滴并被疏水性材料包封,从而防止液滴重新结合。这样的材料已称为“干水”、“粉末化水”或“粉-液”并可具有超过95%的水含量。其通过水与疏水性材料的强力混合而形成。在该过程中,水滴被固体颗粒包覆并防止再次流动到一起。关于将“干水”用作化妆品基料的最早实验追溯到20世纪60年代。参见US 3,393,155。这些自由流动的细粉在皮肤上摩擦时液化。
近来,US 6,290,941描述了包含带疏水性涂层的二氧化硅颗粒的美容或药学粉-液组合物,所述颗粒中掺有水和水溶性聚合物,所述组合物基本上不含油。据称,这样的组合物只需要较少的二氧化硅同时维持持水能力,并允许配方中基本上无需添加油。
WO 2011/075418公开了一种粉状组合物,其包含a)至少一种核-壳颗粒形式的粉末,该核包含液态水或液态水相,而壳包含疏水性或疏水化颗粒,和b)至少一种包含载体和以下物质的粉末:b1)至少部分水溶性的液体和/或b2)水反应性基质,它们各自位于载体中和/或载体上。
Eshtiaghi等人的,Powder Technology(《粉末技术》)(第223卷,2012年,第65-76页)描述了多种粉-液材料并提出了它们的形成机理。所用的壳材料包括疏水性(有机硅涂布的)二氧化硅、疏水性玻璃珠和聚四氟乙烯(PTFE或特氟隆)粉末。核材料包括水、甘油和聚乙二醇(PEG)。所报道的含甘油的材料的粒度为1200和3400微米。
虽然通常描述水基粉-液,但是它们不适于与不稳定的或与水不相容的活性剂(例如易于氧化和/或水解的植物提取物)配制。此外,含水颗粒通常缺乏结构稳定性并且易于在贮藏期间塌陷或泄露,并使得水从核中蒸发。
申请人现已发现了一种制备含有无水核的粉-膏颗粒的方法。这样的颗粒是稳定的并且可用于与多种活性剂,甚至与易于氧化和/或水解的那些活性剂配制。包含这样的颗粒的组合物还便于使用,同时提供膏状、令人愉悦的肤感和皮肤亲和力(保持在皮肤上的能力)。该组合物可用于美容、皮肤护理、创伤护理、皮肤病学和其他个人护理产品,以及用于其他应用和行业。
发明内容
本发明提供一种包含平均粒度小于1000微米的核/壳颗粒的粉末,每个颗粒包含:1)基本上不含水而包含表面极性百分比为至少24%的极性液体的液核,和2)包含疏水性颗粒的壳。
本发明还提供包含上述粉末的个人护理组合物。
附图说明
图1示出了包含单相液核的核/壳颗粒的示意性剖视图。
图2示出了包含两相液核的核/壳颗粒的示意性剖视图。
具体实施方式
如本文所用,除非另外指明,否则所有百分比基于所提及的组合物的总重量按重量计。
本文提及的所有专利和已公布的专利申请的公开内容全文以引用方式并入。
如本文所用,“基本上不含”某种成分意指含有约5重量%或更少的该成分。优选地,基本上不含某种成分意指含有按重量计约2%或更少、或约1%或更少、或约0.5%或更少、或约0.1%或更少、或约0.05或更少、或约0.01%或更少的这种成分。在某些实施例中,基本上不含某种成分意指完全不含该成分,即,不包含该成分。
如本文所用,“活性剂”是对组织具有美容或治疗性效果的化合物(例如,合成的化合物,或从天然来源分离得到的化合物),例如能够对人体施加生物效应的材料,诸如治疗性药物或美容剂。活性剂的实例包括小分子、肽、蛋白质、核酸材料和营养物质(诸如矿物质和提取物)。活性剂的量将取决于该活性剂和/或最终产品的预期用途。活性剂可以是液体、固体或半固体的。另外,活性剂可掺入核/壳颗粒的液核和/或壳中。
如本文所用,“药学上可接受的”、“美容上可接受的”或“皮肤病学上可接受的”意指适用于接触组织(例如皮肤、毛发、粘膜、上皮等)而无不当的毒性、不相容性、不稳定性、刺激或变应性反应。
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