[发明专利]反应性介晶在审
申请号: | 201380065725.2 | 申请日: | 2013-11-18 |
公开(公告)号: | CN104870609A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | K·阿德莱姆;O·L·帕里;G·史密斯;P·E·萨克斯顿;M·纳姆特比;V·库克;J·萨根特 | 申请(专利权)人: | 默克专利股份有限公司 |
主分类号: | C09K19/04 | 分类号: | C09K19/04;C09K19/12;C09K19/38 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 孙悦 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应 性介晶 | ||
发明领域
本发明涉及包含三联苯基的反应性介晶(RM),包含它们的混合物和调制物,获自该RM和RM混合物的聚合物,以及RM、RM混合物和聚合物在光学或电光学组件或器件如用于液晶显示器(LCD)的光学延迟膜中的用途。
背景和现有技术
反应性介晶(RM)、包含它们的混合物或调制物、和自其获得的聚合物可用于制造光学组件,如补偿、延迟或偏振膜、或透镜。这些光学组件可用于光学或电光学器件如LC显示器。通常,RM或RM混合物通过原位聚合过程聚合。
制造具有高双折射的RM膜产品对于制造现代显示器器件如LCD的光学组件是非常重要的。增加RM的双折射同时保持其可聚合并具有良好的物理性质是可能的,但需要将特定的化学基团,如例如二苯乙炔基并入化合物。这些二苯乙炔基是相对反应活性的并通常不适合光暴露,使得它们由于黄化或其它降解作用而难以用于许多光学应用。
因此,本发明的目的是提供改进的RM和RM调制物,其不具有现有技术已知的材料缺陷。具体地,目的是提供适用于通过原位UV光聚合制备聚合物的RM和RM调制物,所述RM和RM调制物具有高双折射,并在暴露于UV光之后显示出高黄化抗性。自以下描述,本发明的其它目的对于专业人员而言立即变得显而易见。
本发明的发明人已发现这些目的可通过提供下文公开并要求保护的RM和RM调制物实现。
发明概述
本发明涉及式I的化合物
其中
P为可聚合基团,
Sp为间隔基团或单键,
L1、L2、L3彼此独立地为P-Sp-、F、Cl、Br、I、-CN、-NO2、-NCO、-NCS、-OCN、-SCN、-C(=O)NR00R000、-C(=O)X、-C(=O)OR00、-C(=O)R0、-NR00R000、-OH、-SF5、任选取代的甲硅烷基、具有1-12个、优选1-6个C原子的芳基或杂芳基、和具有1-12个、优选1-6个C原子的直链或支链烷基、烷氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基羰基氧基或烷氧基羰基氧基,其中一个或多个H原子任选被F或Cl替代,
r1、r2、r3彼此独立地为0、1、2、3或4,
R00,R000彼此独立地表示H或具有1-12个C原子的烷基,
Y为CN、F、Cl、OCF3、OCH3或CF3。
本发明进一步涉及包含两种或更多种RM的混合物,其在下文称为“RM混合物”,所述两种或更多种RM的至少一种为式I的化合物。
本发明进一步涉及包含一种或多种式I的化合物或如上下文所述RM混合物、并进一步包含一种或多种溶剂和/或添加剂的调制物,其在下文称为“RM调制物”。
本发明进一步涉及可通过式I的化合物或如上下文所述的RM混合物聚合获得的聚合物,优选其中RM为配向的,和优选在其中RM或RM混合物展示出液晶相的温度下。
本发明进一步涉及式I的化合物、RM混合物或如上下文所述的聚合物在光学、电光学或电子组件或器件中的用途。
本发明进一步涉及包含RM、RM混合物或如上下文所述聚合物的光学、电光学或电子器件或其组件。
所述组件包括,但不限于,光学延迟膜、偏光器、补偿器、分束器、反光膜、配向层、彩色滤光片、防静电保护板、电磁干扰保护板、偏光调控透镜(例如用于自动立体3D显示器)、和IR反射膜(例如用于窗口应用)。
所述器件包括,但不限于,电光学显示器(尤其是LC显示器、自动立体3D显示器)、有机发光二极管(OLED)、光学数据储存器件、和窗口。
附图简要说明
图1显示了根据现有技术的RM和根据本发明的RM在无水DCM中的对比ΔE(实验室)数据。
术语定义
如本文所用,术语“RM混合物”意指包含两种或更多种RM、和任选包含其它材料的混合物。
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