[发明专利]等离子体源在审
| 申请号： | 201380065446.6 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN105144338A | 公开（公告）日： | 2015-12-09 |
| 发明（设计）人： | S·克拉斯尼特泽;J·哈格曼恩 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面解决方案股份公司;特吕巴赫 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张涛;刘春元 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 | ||
1.等离子体产生装置，包括
-具有等离子体源空心体(1)和电子发射单元(5)的等离子体源，所述电子发射单元使得自由电子能够发射到等离子体源空心体之中，其中所述等离子体源空心体(1)具有第一气体入口(7a)和等离子体源开口(10)，所述等离子体源开口构成通向真空室的开口，
-以及具有阳极空心体(2)的阳极，其中所述阳极空心体(2)具有第二气体入口(7b)和阳极开口(11)，所述阳极开口构成通向真空室的开口，
-和电压源(8)，所述电压源的负极与电子发射单元(5)相连并且所述电压源的正极与阳极空心体(2)相连，
其特征在于，电压源(8)的正极还通过第一分路电阻(6a)与等离子体源空心体电相连。
2.根据权利要求1所述的等离子体产生装置，其特征在于，电压源(8)的正极通过第二分路电阻(6b)与真空室电相连。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的等离子体产生装置，其特征在于，在等离子体源开口(10)的情况下设置挡板(9p)，利用该挡板能够在需要时关闭等离子体源开口。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体产生装置，其特征在于，在阳极开口(11)的情况下设置挡板(9a)，利用该挡板能够在需要时关闭阳极开口(11)。
5.根据上述权利要求中任一项所述的等离子体产生装置，其特征在于，等离子体源开口和/或阳极开口被设计为，使得能够在运行时通过一个开口和/或这些开口建立超声流。
6.利用PE-CVD对衬底进行涂层的方法，其中将单体和/或聚合物气体放入到包括等离子体产生装置的真空室之中，利用等离子体产生装置在真空室中建立等离子体，并且对待涂层的衬底施加负电压，其特征在于，所述等离子体产生装置是根据权利要求5所述的等离子体产生装置，并且不会通过该等离子体产生装置对等离子体空心体的内腔进行涂层，也不会对阳极空心体的内腔进行涂层。
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