[发明专利]具有嵌入扩散片的增亮膜

权利要求书

1.一种光学膜，包括：

双折射基材；

由所述基材承载的棱镜层，所述棱镜层具有主表面，所述主表面包括沿着相同棱镜方向延伸的多个并排的线性棱镜；和

设置在所述基材与所述棱镜层之间的嵌入结构化表面，所述嵌入结构化表面包括被布置为使得在相邻结构之间形成脊的密集堆积结构，所述结构的尺寸沿两个正交平面内方向受到限制；

其中所述嵌入结构化表面具有通过与相应的正交的第一平面内方向和第二平面内方向相关联的第一傅立叶功率谱和第二傅立叶功率谱来表征的形貌，并且其中

就所述第一傅立叶功率谱包括不对应于零频率并且由限定第一基线的两个相邻谷界定的一个或多个第一频峰来说，任何此类第一频峰具有小于0.8的第一峰比率，所述第一峰比率等于所述第一频峰与所述第一基线之间的面积除以所述第一频峰下方的面积，并且

就所述第二傅立叶功率谱包括不对应于零频率并且由限定第二基线的两个相邻谷界定的一个或多个第二频峰来说，任何此类第二频峰具有小于0.8的第二峰比率，所述第二峰比率等于所述第二频峰与所述第二基线之间的面积除以所述第二频峰下方的面积；并且

其中所述嵌入结构化表面由平面图中小于200mm/mm²的每单位面积的脊总长度来表征。

2.一种光学膜，包括：

双折射基材；

由所述基材承载的棱镜层，所述棱镜层具有主表面，所述主表面包括沿着相同棱镜方向延伸的多个并排的线性棱镜；和

设置在所述基材与所述棱镜层之间的嵌入结构化表面，所述嵌入结构化表面包括密集堆积结构，所述嵌入结构化表面限定基准平面和垂直于所述基准平面的厚度方向；

其中所述嵌入结构化表面具有通过与相应的正交的第一平面内方向和第二平面内方向相关联的第一傅立叶功率谱和第二傅立叶功率谱来表征的形貌，并且其中

就所述第一傅立叶功率谱包括不对应于零频率并且由限定第一基线的两个相邻谷界定的一个或多个第一频峰来说，任何此类第一频峰具有小于0.8的第一峰比率，所述第一峰比率等于所述第一频峰与所述第一基线之间的面积除以所述第一频峰下方的面积，并且

就所述第二傅立叶功率谱包括不对应于零频率并且由限定第二基线的两个相邻谷界定的一个或多个第二频峰来说，任何此类第二频峰具有小于0.8的第二峰比率，所述第二峰比率等于所述第二频峰与所述第二基线之间的面积除以所述第二频峰下方的面积；并且

其中所述密集堆积结构通过所述基准平面中的等效圆直径(ECD)和沿所述厚度方向的平均高度来表征，并且其中每个结构的纵横比等于所述结构的所述平均高度除以所述结构的所述ECD；并且

其中所述结构的平均纵横比小于0.15。

3.一种光学膜，包括：

双折射基材；

由所述基材承载的棱镜层，所述棱镜层具有主表面，所述主表面包括沿着相同棱镜方向延伸的多个并排的线性棱镜；和

设置在所述基材与所述棱镜层之间的嵌入结构化表面，所述嵌入结构化表面包括具有弯曲基部表面的密集堆积结构；

其中所述嵌入结构化表面具有通过与相应的正交的第一平面内方向和第二平面内方向相关联的第一傅立叶功率谱和第二傅立叶功率谱来表征的形貌，并且其中

就所述第一傅立叶功率谱包括不对应于零频率并且由限定第一基线的两个相邻谷界定的一个或多个第一频峰来说，任何此类第一频峰具有小于0.8的第一峰比率，所述第一峰比率等于所述第一频峰与所述第一基线之间的面积除以所述第一频峰下方的面积；并且

就所述第二傅立叶功率谱包括不对应于零频率并且由限定第二基线的两个相邻谷界定的一个或多个第二频峰来说，任何此类第二频峰具有小于0.8的第二峰比率，所述第二峰比率等于所述第二频峰与所述第二基线之间的面积除以所述第二频峰下方的面积；并且

其中所述嵌入结构化表面提供小于95％的光学雾度。