[发明专利]具有中等粘附和保留强度的层压制品

权利要求书

1.一种层压件制品，其包括：

玻璃基片，其具有相对的主表面和第一平均失效应变；

减缓裂纹的层，其设置在第一主表面上并形成第一界面；和

膜，其设置在减缓裂纹的层上并形成第二界面,所述膜具有低于第一平均失效应变的第二平均失效应变，

其中第一界面和第二界面中的至少一个界面呈现中等粘附，从而当制品发生应变到在第一平均失效应变和第二平均失效应变之间的应变水平时，至少一部分的减缓裂纹的层与膜或玻璃基片分离。

2.如权利要求1所述的层压件制品，其特征在于，当源自膜的裂纹桥接进入减缓裂纹的层时，至少一部分的减缓裂纹的层与膜分离。

3.如权利要求1或2所述的层压件制品，其特征在于，当源自玻璃基片的裂纹桥接进入减缓裂纹的层时，至少一部分的减缓裂纹的层与玻璃基片分离。

4.如权利要求1、2或3所述的层压件制品，其特征在于，所述减缓裂纹的层的断裂韧性为玻璃基片和膜之一的断裂韧性的约50％或更小。

5.如权利要求1、2、3或4所述的层压件制品，其特征在于，所述减缓裂纹的层具有约1MPa·m^1/2或更小的断裂韧性。

6.如权利要求5所述的层压件制品，其特征在于，所述减缓裂纹的层包括等离子体聚合的聚合物、硅烷或金属。

7.如权利要求6所述的层压件制品，其特征在于，所述等离子体聚合的聚合物包括下述的一种或更多种：等离子体聚合的含氟聚合物、等离子体聚合的烃聚合物、等离子体聚合的硅氧烷聚合物和等离子体聚合的硅烷聚合物。

8.如权利要求6所述的层压件制品，其特征在于，所述减缓裂纹的层的厚度是100nm或更小。

9.如权利要求7所述的层压件制品，其特征在于，所述等离子体聚合的烃聚合物包括由挥发性气体形成的真空沉积的材料，该挥发性气体包括下述的一种或更多种：烷烃(C_nH_2n+2)、烯烃(C_nH_2n)和炔烃(C_nH_2n-2),其中n<8。

10.如权利要求7所述的层压件制品，其特征在于，所述等离子体聚合的含氟聚合物包括由形成聚合物的氟碳气体和氟化蚀刻剂形成的真空沉积的材料。

11.如权利要求10所述的层压件制品，其特征在于，所述形成聚合物的氟碳气体包括CHF₃和C₄F₈中的一种或更多种,氟化蚀刻剂包括CF₄,C₂F₆,C₃F₈,NF₃和SF₆中的一种或更多种。

12.如权利要求7所述的层压件制品，其特征在于，所述等离子体聚合的硅烷聚合物包括由硅烷来源材料形成的真空沉积的材料，该硅烷来源材料具有通式R_xSiX_4-x，其中R是烷基或芳基有机基团，X是氢、卤化物或烷氧基基团之一。

13.如权利要求6所述的层压件制品，其特征在于，所述硅烷包括溶液沉积的硅烷或蒸气沉积的硅烷,所述蒸气沉积的硅烷形成时不使用等离子体,其中溶液沉积的硅烷和蒸气沉积的硅烷包括脂肪族硅烷和芳香族硅烷中的一种或更多种。

14.如权利要求13所述的层压件制品，其特征在于，硅烷具有通式R_xSiX_4-x，其中R是氟、烷基、任选地氟化的芳基有机基团或氯化芳基有机基团,以及X是卤化物或烷氧基基团。

15.如权利要求6所述的层压件制品，其特征在于，所述金属包括Au或Cu之一，且厚度为约5nm或更小。

16.如权利要求5所述的层压件制品，其特征在于，所述减缓裂纹的层包括连续的层或不连续的层。

17.如权利要求5所述的层压件制品，其特征在于，所述膜包括选自下述的一种或更多种的功能性质：光学性质、电学性质和机械性质，并且当将减缓裂纹的层设置在玻璃基片和膜之间时，所述膜基本上保留该功能性质。