[发明专利]涂料组合物和由其制备的具有高耐刮擦性与良好抛光性和良好光学性能的涂层、及其用途在审
申请号: | 201380062844.2 | 申请日: | 2013-10-18 |
公开(公告)号: | CN104903374A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | M·格罗尼沃尔特;B·奥斯特鲁普;K·许布纳;J·穆勒;S·汉宁;A·弗兰克 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫涂料有限公司 |
主分类号: | C08G18/62 | 分类号: | C08G18/62;C08G18/72;C08G18/80;C09D175/04;C08G18/28 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐国栋;林柏楠 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂料 组合 制备 具有 高耐刮擦性 良好 抛光 光学 性能 涂层 及其 用途 | ||
1.非水涂料组合物,其包含:
(A)至少一种含多羟基化合物(A),
(B1)至少一种含多异氰酸酯基团化合物(B1),其具有游离或封端异氰酸酯基团,且具有脂环族多异氰酸酯母体结构和/或通过三聚、二聚、形成氨基甲酸酯、形成缩二脲、形成脲二酮和/或形成脲基甲酸酯而衍生自一种这类脂环族多异氰酸酯的多异氰酸酯母体结构,
(B2)至少一种不同于组分(B1)的含多异氰酸酯基团化合物(B2),其具有游离或封端异氰酸酯基团,且具有无环脂族多异氰酸酯母体结构和/或通过三聚、二聚、形成氨基甲酸酯、形成缩二脲、形成脲二酮和/或形成脲基甲酸酯而衍生自一种这类无环脂族多异氰酸酯的多异氰酸酯母体结构,
(D)至少一种用于使硅烷基团交联的催化剂(D),和
(R)至少一种基于热解法二氧化硅的流变辅助剂(R),
其中组分(B1)和/或组分(B2)包含至少一个式(I)结构单元:
-NR-(X-SiR”x(OR')3-x) (I)
和/或至少一个式(II)结构单元:
-N(X-SiR”x(OR')3-x)n(X'-SiR”y(OR')3-y)m (II)
其中:
R=氢、烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可被不相邻的氧、硫或NRa基团间隔,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,
R'=氢、烷基或环烷基,其中碳链可被不相邻的氧、硫或NRa基团间隔,
X、X'=具有1-20个碳原子的线性和/或支化亚烷基或亚环烷基,
R”=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可被不相邻的氧、硫或NRa基团间隔,
n=0~2,m=0~2,m+n=2,且x、y=0~2,
条件是:
(i)组分(B1)以一定量使用,使得组分(B1)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量为5-45重量%,每种情况下基于组分(B1)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量加组分(B2)的含异氰酸酯基团母体结构的基料含量之和,且
(ii)组分(B1)加(B2)的混合物包含结构单元(I)和结构单元(II)。
2.根据权利要求1的涂料组合物,其特征在于组分(B1)加组分(B2)的混合物中结构单元(I)的总量每种情况下基于结构单元(I)加(II)的全部为3-90摩尔%,优选5-70摩尔%,且组分(B1)加组分(B2)的混合物中结构单元(II)的总量每种情况下基于结构单元(I)加(II)的全部为97-10摩尔%,优选95-30摩尔%。
3.根据权利要求1或2的涂料组合物,其特征在于化合物(B1)的多异氰酸酯母体结构为异佛尔酮二异氰酸酯和/或4,4`-亚甲基二环己基二异氰酸酯和/或其异氰尿酸酯三聚物和/或脲基甲酸酯二聚物和/或缩二脲二聚物,和/或化合物(B2)的多异氰酸酯母体结构为1,6-六亚甲基二异氰酸酯和/或其异氰尿酸酯三聚物和/或脲基甲酸酯二聚物和/或缩二脲二聚物。
4.根据权利要求1-3中任一项的涂料组合物,其特征在于组分(B2)通过无环脂族多异氰酸酯和/或通过三聚、二聚、形成氨基甲酸酯、形成缩二脲、形成脲二酮和/或形成脲基甲酸酯而衍生自一种这类无环脂族多异氰酸酯的多异氰酸酯与至少一种式(Ia)化合物:
H-NR-(X-SiR”x(OR')3-x) (Ia)
和/或与至少一种式(IIa)化合物:
HN(X-SiR”x(OR')3-x)n(X'-SiR”y(OR')3-y)m (IIa)
反应而制备,
和/或
组分(B1)通过使脂环族多异氰酸酯和/或通过三聚、二聚、形成氨基甲酸酯、形成缩二脲、形成脲二酮或形成脲基甲酸酯而衍生自脂环族多异氰酸酯的多异氰酸酯与至少一种式(Ia)化合物和/或与至少一种式(IIa)化合物反应而制备,其中取代基具有权利要求1中所述定义。
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