[发明专利]防积垢流动歧管

权利要求书

1.一种防积垢传感器歧管，其用于将流体引导到安装在所述歧管上的传感器，所述歧管包括：

流体入口；

流体出口；

流体通道，其将所述入口连接到所述出口；

歧管壁，其限定通道内表面，所述通道内表面包括用于安装所述传感器以便暴露于流经所述通道的流体的传感器安装区域；

偏转构造，其设置在所述传感器安装区域的上游，以使所述流体的流加速，借此所述流体流的速度梯度的所得变化在所述传感器安装区域处引起壁剪力的局部增加，从而在使用中抵制所述传感器的积垢。

2.根据权利要求1所述的传感器歧管，其中所述偏转构造包括以下各项中的一项或多项：所述歧管通道中的肘形弯管；所述通道的紧缩部；文丘里管构造；挡板；偏转表面；偏转叶片；鳍片；通道横截面轮廓的变化；壁表面抛光；通道膛线和/或喷嘴构造。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的传感器歧管，其中所述偏转构造包括所述流体通道中的弯管。

4.根据权利要求3所述的传感器歧管，其中所述弯管介于45度与约135度之间。

5.根据权利要求3所述的传感器歧管，其中所述弯管介于60度与约120度之间。

6.根据权利要求3所述的传感器歧管，其中所述弯管介于75度与约105度之间。

7.根据权利要求3所述的传感器歧管，其中所述弯管为约90度。

8.根据前述权利要求中任一项所述的传感器歧管，其中所述偏转构造包括所述通道的紧缩部以使所述流加速。

9.根据权利要求8所述的传感器歧管，其中所述紧缩部包括用于引导所述流的喷嘴，所述喷嘴具有在喷嘴出口上游的喷嘴入口。

10.根据权利要求9所述的传感器歧管，其中所述喷嘴包括所述喷嘴入口与所述喷嘴出口之间的横截面面积的阶梯状变化。

11.根据权利要求9所述的传感器歧管，其中所述喷嘴从所述喷嘴入口向所述喷嘴出口次第渐缩。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的传感器歧管，其中所述喷嘴出口具有大体上圆形的横截面轮廓。

13.根据权利要求9至11中任一项所述的传感器歧管，其中所述喷嘴出口具有大体上细长的横截面轮廓。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的传感器歧管，其中所述喷嘴提供大于1的所述通道横截面面积相对于所述喷嘴出口横截面面积的喷嘴减小比。

15.根据权利要求14所述的传感器歧管，其中所述喷嘴减小比大于4。

16.根据权利要求14所述的传感器歧管，其中所述喷嘴减小比大于15。

17.根据权利要求9所述的传感器歧管，其中所述喷嘴出口在所述通道内大体上位于中心处。

18.根据权利要求9所述的传感器歧管，其中所述喷嘴出口从所述通道的中心偏移。

19.根据权利要求9所述的传感器歧管，其中所述喷嘴与所述歧管壁一体形成。

20.根据权利要求9至19中任一项所述的传感器歧管，其中所述喷嘴出口设置在偏转表面上游，并且适于将所述加速流引导到所述偏转表面上。

21.根据权利要求9至19中任一项所述的传感器歧管，其中所述歧管包括所述流体通道中的弯管。

22.根据权利要求21所述的传感器歧管，其中所述喷嘴出口设置在所述弯管上游，以将所述加速流引导到所述弯管中。

23.根据权利要求22所述的传感器歧管，其中所述弯管包括偏转表面。

24.根据前述权利要求中任一项所述的传感器歧管，其中所述偏转构造适于发起下游涡流。

25.根据前述权利要求中任一项所述的传感器歧管，其中所述通道的横截面为大体上圆形或正方形、具有最大宽度D。

26.根据权利要求1至24中任一项所述的传感器歧管，其中所述通道具有大体上D形横截面，包括与大体上平坦段相对的大体上半圆形段，所述通道具有最大宽度D。