[发明专利]光学涂覆方法、设备和产品

权利要求书

1.一种用于在涂覆过程中固定衬底的衬底载体，所述衬底载体包括：

衬底载体基座，其包括停留表面、底面和设置在停留表面上的衬底停留区域，该衬底停留区域的面积小于停留表面的面积；

多个磁体，其结合到所述衬底载体基座的底面并设置在所述衬底停留区域周界以外；

用于支撑设置在停留表面上的衬底的多个销钉；

弹簧系统,其包括由弹簧固定到位的可回缩的销钉且当衬底设置在停留表面上时该弹簧偏移可回缩的销钉来接触衬底；和

从衬底载体基座延伸的多个侧面停止销，延伸的距离使得当衬底设置在多个销钉上时多个侧面停止销的顶部在衬底的顶部表面以下。

2.如权利要求1所述的衬底载体，其特征在于，还包括粘合剂材料，该粘合剂材料设置在衬底停留区域的停留表面上方，用于可释放地将至少一个待涂覆的衬底固定到停留表面。

3.如权利要求1或权利要求2所述的衬底载体，其特征在于，还包括：

壳体，其具有设置在壳体之内的可回缩的销钉，其中可回缩的销钉由弹簧固定到位,当衬底设置在停留表面上时可回缩的销钉从壳体向外偏移并接触衬底；和

当把衬底设置在停留表面上时用于固定衬底边缘的多个可移动的销钉，其中，所述用于固定衬底边缘的多个可移动的销钉的位置是可调节的，以容纳不同形状和尺寸的衬底。

4.一种用于在涂覆过程中固定衬底的衬底载体，所述衬底载体包括：

衬底载体基座，其包括停留表面、底面和设置在停留表面上的衬底停留区域；

多个磁体，其结合到所述衬底载体基座的底面并设置在所述衬底停留区域周界以外；

粘合剂材料，其设置在衬底停留区域的停留表面上方并用于可释放地固定至少一个待涂覆的衬底；

用于支撑设置在停留表面上的衬底的多个销钉；

弹簧系统,其包括由弹簧固定到位的可回缩的销钉且当衬底设置在停留表面上时该弹簧偏移可回缩的销钉来接触衬底；和

从衬底载体基座延伸的多个侧面停止销，延伸的距离使得当衬底设置在多个销钉上时多个侧面停止销的顶部在衬底的顶部表面以下。

5.如权利要求4所述的衬底载体，其特征在于，所述衬底载体还包括在停留表面和粘合剂材料之间设置的聚合物膜，所述聚合物膜包括热塑性聚合物膜或者静电膜，且其中所述粘合剂材料包括压敏粘合剂、丙烯酸类粘合剂、橡胶粘合剂和硅酮粘合剂中的一种。

6.一种用于涂覆衬底的涂覆设备，所述涂覆设备包括：

真空室；

可旋转的穹顶，其设置在真空室内，并包括磁性材料；

如权利要求1-5中任一项所述的衬底载体；和

等离子体源，该等离子体源设置在真空室之内，并基本上垂直取向，以把等离子体引导到可旋转的穹顶的底面上,其中，等离子体源设置在可旋转的穹顶以下并从可旋转的穹顶的旋转轴线径向地向外，从而发射自等离子体源的等离子体从至少可旋转的穹顶的外边缘到至少可旋转的穹顶的中央入射到可旋转的穹顶的底面上。

7.如权利要求6所述的涂覆设备，其特征在于，所述可旋转的穹顶旋转轴线和等离子体源之间的距离大于可旋转的穹顶的投影的周界和等离子体源之间的距离。

8.如权利要求6或权利要求7所述的涂覆设备，其特征在于，还包括至少一个电子束源，其设置在真空室内，并取向以把电子束引导到设置在真空室内的涂层源材料上，以及至少一个可调节的设置在真空室之内的阴影掩模。

9.如权利要求6所述的涂覆设备，其特征在于，所述可旋转的穹顶包括：

可旋转的穹顶顶部中央的开口；

覆盖可旋转的穹顶的开口的透明玻璃板；和

监视器，该监视器位于透明玻璃板的开口中，用于监测真空室中沉积的涂层材料的沉积速率。