[发明专利]用于高纵横比及大横向尺寸结构的度量系统及方法

权利要求书

1.一种系统，其经配置以确定在晶片上形成的一或多个结构的一或多个特性，所述系统包括：

照明子系统，其经配置以将光引导到在所述晶片上形成的所述一或多个结构，其中所述光包括紫外光、可见光及红外光，且其中所述一或多个结构包括至少一个高纵横比结构或至少一个大横向尺寸结构；

检测子系统，其经配置以产生响应于归因于引导到所述一或多个结构的所述光而来自所述一或多个结构的光的输出；以及

计算机子系统，其经配置以使用所述输出确定所述一或多个结构的一或多个特性。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个高纵横比结构包括由具有不同光学性质的不同材料组成的交替层。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个大横向尺寸结构并非在所述晶片上形成的多个周期结构中的一者。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构具有大于0.5微米的周期。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统包括至少一个激光维持等离子光源。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统经进一步配置以将所述光引导到所述一或多个结构上的光斑，且其中所述光斑具有至少一个小于50微米的横向尺寸。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统经进一步配置以将不同波长的紫外光、可见光及红外光依序引导到所述一或多个结构，且其中所述照明子系统经进一步配置以随引导到所述一或多个结构的所述光的波长变化而改变所述光所引导到的光斑的大小及位置。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统包括在单个衬底上具有第一区域及第二区域的滤光器，其中所述第一区域经配置以在紫外光被所述照明子系统引导到所述一或多个结构时使用，且其中所述第二区域经配置以在红外光被所述照明子系统引导到所述一或多个结构时使用。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于椭圆偏振术。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于光谱椭圆偏振术。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于反射术。

12.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统中的至少一者包含切趾元件，且其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于光谱椭圆偏振术、光谱反射术、射束轮廓椭圆偏振术或射束轮廓反射术。

13.根据权利要求1所述的系统，其中所述检测子系统包括经配置以检测来自所述一或多个结构的红外光而非紫外光的第一分光计子系统及经配置以检测来自所述一或多个结构的紫外光而非红外光的第二分光计子系统，其中所述第一及第二分光计的波长范围重叠，且其中所述计算机子系统经进一步配置以使用在重叠的所述波长范围中产生的所述输出来组合来自所述第一及第二分光计的输出。

14.根据权利要求1所述的系统，其中所述计算机子系统经进一步配置以使用响应于来自所述一或多个结构的红外光的所述输出来确定所述至少一个高纵横比结构的底部部分的一或多个特性及使用响应于来自所述一或多个结构的可见及紫外光的所述输出来确定所述至少一个高纵横比结构的顶部部分的一或多个特性。

15.根据权利要求1所述的系统，其中所述计算机子系统经进一步配置以不使用响应于紫外光及可见光的所述输出来确定所述至少一个大横向尺寸结构的所述一或多个特性。

16.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构并非装置结构，且其中所述一或多个结构包括包含在所述装置结构中的一或多个层且具有不同于包含在所述装置结构中的所述一或多个层的厚度。

17.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构包括对所述光的至少一些不透明的材料，且其中所述一或多个特性包括基于所述材料变不透明时的波长确定的所述材料的能带隙及基于所述能带隙确定的所述材料的组成。