[发明专利]抛光垫无效
| 申请号： | 201380059902.6 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN104812528A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 中村贤治 | 申请（专利权）人： | 东洋橡胶工业株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013;B24B37/22;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 钟守期;侯婧 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种抛光垫，其具备抛光层，所述抛光层具有抛光区域及光透过区域，所述抛光垫特征在于，所述光透过区域包括位于垫表面侧的表层和在表层的下方层叠的至少1层软质层，其中，软质层比表层硬度低。
2.根据权利要求1所述的抛光垫，其中表层的ASKER A硬度为35-80度，软质层的ASKER A硬度为30-60度。
3.根据权利要求1或2所述的抛光垫，其中表层的ASKER A硬度与软质层的ASKER A硬度的差为5度以上。
4.根据权利要求1-3中的任一项所述的抛光垫，其中软质层为1层。
5.一种半导体器件的制造方法，其包括使用权利要求1-4中的任一项所述的抛光垫对半导体晶片的表面进行抛光的步骤。
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