[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，对多个基材的表面进行PVD处理，由此形成膜，所述成膜装置的特征在于，

具备：

真空腔室，收容上述多个基材；

基材支承部件，设在上述真空腔室内，一边支承上述基材一边使上述基材在真空腔室内移动；和

多个蒸发源，设在上述真空腔室的内壁面上，配置为，在与上述基材支承部件使上述基材移动的方向交叉的方向上成列排列；

上述多个蒸发源包括第1蒸发源和第2蒸发源，所述第1蒸发源为该多个蒸发源中的分别位于该多个蒸发源排列的方向的两端的两个蒸发源的至少一方，所述第2蒸发源与该第1蒸发源相邻，上述第1蒸发源配置为，比上述第2蒸发源更向上述基材侧突出。

2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述基材支承部件是工件台；

上述工件台一边支承上述基材一边使上述基材绕对该基材赋予的基材旋转中心轴旋转，并绕与上述基材旋转中心轴平行的台旋转中心轴旋转。

3.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述多个蒸发源中的分别位于上述多个蒸发源排列的方向的两端的两个蒸发源都是上述第1蒸发源。

4.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述第1蒸发源配置在下述位置，所述位置与上述基材的相对于上述基材支承部件使该基材移动的方向垂直的方向的两端中的至少一端对置。

5.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述多个蒸发源还包括第3蒸发源，所述第3蒸发源与上述第2蒸发源相邻且位于与第1蒸发源侧相反侧；上述各第1蒸发源与在其内侧相邻的第2蒸发源之间的相对于上述基材支承部件使该基材移动的方向垂直的方向的间隔，比上述第2蒸发源与在其内侧相邻的上述第3蒸发源之间的相对于上述基材支承部件使该基材移动的方向垂直的方向的间隔小。