[发明专利]聚吡咯烷酮抛光组合物和方法

权利要求书

1.抛光组合物，其包含：

(a)0.01重量％至0.1重量％的吡咯烷酮聚合物；

(b)0.05重量％至2重量％的氨基膦酸；

(c)0.01重量％至5重量％的四烷基铵盐；和

(d)水，

其中所述组合物具有7至11.7的pH。

2.权利要求1的抛光组合物，其进一步包含0.05重量％至2重量％的速率促进剂。

3.权利要求1的抛光组合物，其进一步包含0.01重量％至40重量％的二氧化硅颗粒。

4.权利要求1的抛光组合物，其中所述组合物不含研磨剂。

5.权利要求1的抛光组合物，其中所述组合物不含硅的氧化剂。

6.抛光组合物，其基本上由以下物质组成：

(a)0.01重量％至0.1重量％的吡咯烷酮聚合物；

(b)0.05重量％至2重量％的氨基膦酸；

(c)0.01重量％至5重量％的四烷基铵盐；

(d)任选的0.05重量％至2重量％的速率促进剂；

(e)任选的pH调节剂；

(f)任选的碳酸氢盐；和

(g)水，

其中所述组合物具有7至11.7的pH。

7.权利要求6的抛光组合物，其中所述速率促进剂包括氧肟酸。

8.权利要求7的抛光组合物，其中所述速率促进剂包括乙酰氧肟酸。

9.权利要求6的抛光组合物，其中所述速率促进剂包括含氮杂环化合物。

10.权利要求9的抛光组合物，其中所述含氮杂环化合物包括三唑。

11.权利要求6的抛光组合物，其中所述吡咯烷酮聚合物包括聚乙烯基吡咯烷酮。

12.权利要求6的抛光组合物，其中所述吡咯烷酮聚合物包括聚(1-乙烯基吡咯烷酮-共-甲基丙烯酸2-二甲氨基乙酯)。

13.权利要求6的抛光组合物，其中所述氨基膦酸包括氨基三亚甲基膦酸。

14.权利要求6的抛光组合物，其中所述四烷基铵盐包括氢氧化四甲基铵。

15.抛光基材的方法，所述方法包括：

(i)使基材与抛光垫和权利要求6的抛光组合物接触；

(ii)使所述抛光垫相对于所述基材移动，其间具有所述抛光组合物；和

(iii)磨除所述基材的至少一部分以抛光所述基材。

16.权利要求15的方法，其中所述基材为硅晶片。