[发明专利]包含硅氧烷化合物的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物来调节表面能的防反射膜在审
申请号: | 201380057163.7 | 申请日: | 2013-10-08 |
公开(公告)号: | CN104755570A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 赵烘宽;金源国 | 申请(专利权)人: | 乐金华奥斯有限公司 |
主分类号: | C09D183/08 | 分类号: | C09D183/08;G02B1/111;C08J5/18;G06F3/041 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;刘明海 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 硅氧烷 化合物 反射 组合 利用 调节 表面 | ||
1.一种防反射涂敷组合物,其特征在于,包含粘结剂和中空二氧化硅粒子,所述粘结剂是相对于100重量份的由下述化学式1表示的硅烷化合物,使用0.1重量份~20重量份的由下述化学式2表示的有机硅烷化合物进行聚合而成的,
化学式1:
R1xSi(OR2)4-x,
在所述化学式1中,R1为碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基或碳数3~10的烯基,R2为碳数1~6的烷基,x表示0≤x<4的整数;
化学式2:
R3ySi(OR4)4-y,
在所述化学式2中,R3为碳数1~12的氟烷基,R4为碳数1~6的烷基,y表示0≤y<4的整数。
2.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物,其特征在于,由所述化学式1表示的硅烷化合物为选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、异丁基三乙氧基硅烷、环己基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷及二苯基二乙氧基硅烷中的一种或两种以上的化合物。
3.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物,其特征在于,由所述化学式2表示的有机硅烷化合物为选自三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、九氟丁基乙基三甲氧基硅烷、九氟丁基乙基三乙氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、九氟己基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷及十七氟癸基三乙氧基硅烷中的一种或两种以上的化合物。
4.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物,其特征在于,所述化学式1的x为0、1或2的整数。
5.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物,其特征在于,所述化学式2的R3表示碳数为3~5的氟烷基。
6.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物,其特征在于,所述中空二氧化硅粒子的数均直径在1nm~1000nm范围。
7.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物,其特征在于,所述组合物的pH在3~8范围。
8.一种防反射膜,形成有在基材表面涂敷选自权利要求1至7中任一项所述的涂敷组合物的涂敷层,其特征在于,所述涂敷层的表面的对于水的接触角为40°~80°。
9.根据权利要求8所述的防反射膜,其特征在于,所述涂敷层的折射率在1.20~1.25范围。
10.根据权利要求8所述的防反射膜,其特征在于,所述涂敷层的厚度为1nm~1000nm。
11.根据权利要求8所述的防反射膜,其特征在于,透射率为94%以上,视觉反射率在0.5%~2.0%范围。
12.一种触控面板,其特征在于,包含权利要求8的防反射膜。
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