[发明专利]高度耐用的减反射涂层

权利要求书

1.减反射涂料溶液，其包含：

溶剂；和

聚合物，其包含：

　　许多Si-O-Si键合；和

　　至少一种经由Si-O-X键合化学并入所述聚合物中的增密元素，其中X是所述至少一种增密元素，所述至少一种增密元素包含选自磷、硼、锑、铋、铅、砷及其组合的至少一种元素。

2.权利要求1的减反射涂料溶液，其中所述至少一种增密元素也物理并入所述聚合物中。

3.权利要求1的减反射涂料溶液，其中所述聚合物进一步包含第一烷氧基硅烷前体材料的至少一种残基。

4.权利要求3的减反射涂料溶液，其中第一烷氧基硅烷前体材料包含四乙氧基硅烷。

5.权利要求3的减反射涂料溶液，其中所述聚合物进一步包含不同于第一烷氧基硅烷前体材料的第二烷氧基硅烷前体材料的残基。

6.权利要求5的减反射涂料溶液，其中第二烷氧基硅烷前体材料选自：三烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷、单烷氧基硅烷及其组合。

7.权利要求1的减反射涂料溶液，其中所述增密元素是增密剂在所述减反射涂料溶液中的残基。

8.权利要求7的减反射涂料溶液，其中所述增密剂选自：磷基化合物、硼基化合物、锑基化合物、铋基化合物、铅基化合物、砷基化合物及其组合。

9.权利要求8的减反射涂料溶液，其中所述增密剂包含磷酸。

10.权利要求8的减反射涂料溶液，其中所述增密剂是含氮的磷基化合物。

11.权利要求1的减反射涂料溶液，其中所述聚合物包含许多粒子，所述减反射涂料溶液进一步包含粘合剂。

12.权利要求11的减反射涂料溶液，其中所述粘合剂包含至少一种硅烷材料。

13.权利要求12的减反射涂料溶液，其中所述至少一种硅烷材料选自：烷氧基硅烷材料、氯硅烷材料和乙酰氧基硅烷材料。

14.制造减反射涂料溶液的方法，其包括：

形成至少一种烷氧基硅烷前体材料和碱催化剂在溶剂中的溶液；

使所述至少一种烷氧基硅烷前体材料在碱催化剂存在下反应以形成在所述溶剂中的聚合物基质；

降低所述聚合溶液的pH；和

将增密剂添加到所述溶剂中，所述增密剂包括主要增密元素，所述增密剂的主要增密元素并入聚合物基质中。

15.权利要求14的方法，其中所述增密剂的主要增密元素化学并入和物理并入所述聚合物基质中的至少一种。

16.权利要求14的方法，其中所述增密剂选自：磷基化合物、硼基化合物、锑基化合物、铋基化合物、铅基化合物、砷基化合物及其组合。

17.权利要求16的方法，其中所述增密剂的主要增密元素包含选自磷、硼、锑、铋、铅、砷及其组合的至少一种元素。

18.权利要求14的方法，其中所述溶液包含大约1 ppm至100,000 ppm的增密剂。

19.权利要求14的方法，其中所述溶液包含大约1 ppm至10,000 ppm的增密剂。

20.权利要求14的方法，其中所述添加步骤在所述反应步骤和所述降低步骤后进行。

21.权利要求20的方法，其进一步包括在所述添加步骤后的加热步骤，所述加热步骤使所述增密剂的主要增密元素并入所述聚合物基质中。

22.权利要求14的方法，其中所述添加步骤在所述反应步骤前进行，所述反应步骤使所述增密剂的主要增密元素并入所述聚合物基质中。

23.权利要求14的方法，其进一步包括在所述降低步骤后将粘合剂添加到所述聚合溶液中的步骤。

24.制造光学透明元件的方法，其包括：

将权利要求14的溶液分配到光学透明基底上；和

固化所述溶液以在光学透明基底上形成减反射涂层。