[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，具有：

处理室、托盘保持器、气体导入部和排气部，

上述托盘保持器用于对保持基板的基板托盘进行保持，

上述气体导入部用于将工艺气体导入上述处理室内，

上述排气部用于对上述处理室内进行排气，

上述基板处理装置用于对上述基板进行处理，其特征在于，

上述基板托盘具备托盘本体和包含支撑上述基板的基板支撑部的基板支撑板，

上述托盘本体包含基板保持部和磁铁，上述基板保持部以上述基板应处理的部分露出的方式保持上述基板的周端部，上述磁铁以上述托盘本体通过磁力保持上述基板支撑板的方式被配置在上述基板保持部的外侧，

在上述托盘本体上设置有开口部以及夹持部，以便构成上述基板保持部，上述开口部具有包围上述基板的上述周端部的外侧以便限制上述基板的位置的面，上述夹持部构成为通过上述夹持部和上述基板支撑部夹持上述基板的上述周端部，

上述基板托盘经由密封构件通过上述托盘保持器保持。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

设置有夹紧上述托盘本体的周边部的夹紧环，通过由上述夹紧环所产生的推压，上述托盘本体的下面和上述托盘保持器的托盘本体支撑面通过上述密封构件密封。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述夹紧环被配置成将与上述密封构件相向的上述托盘本体的周边部夹紧。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述密封构件为O型环。

5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述托盘保持器和上述基板支撑板的至少一方，设置有用于将冷却气体导入至与上述基板的处理面相反侧的面的气体导入孔。

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述托盘本体中埋设有轭铁。

7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述托盘本体由非磁性材料形成。

8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述托盘本体上设置有具有比上述基板的外径小的第1直径的第1开口部，从上述第1开口部向外侧延伸的环面，和通过上述环面与上述第1开口部连接、并具有比上述基板外径大的第2直径的第2开口部，上述基板保持部通过上述第1开口部、上述第2开口部及上述环面形成，通过上述环面和上述基板支撑部夹持上述基板，并通过上述第2开口部限制上述基板的位置。

9.一种基板处理装置，具有：

处理室、托盘保持器、气体导入部和排气部，

上述托盘保持器用于对保持基板的基板托盘进行保持，

上述气体导入部用于将工艺气体导入上述处理室内，

上述排气部用于对上述处理室内进行排气，

上述基板处理装置用于对上述基板进行处理，其特征在于，

上述基板托盘具备托盘本体和包含支撑上述基板的基板支撑部的基板支撑板，

上述托盘本体包含基板保持部和磁铁，上述基板保持部以上述基板应处理的部分露出的方式保持上述基板的周端部，上述磁铁以上述托盘本体通过磁力保持上述基板支撑板的方式被配置在上述基板保持部的外侧，

上述基板托盘经由密封构件通过上述托盘保持器保持，

上述磁铁被埋设于上述托盘本体，

在上述托盘本体上设置有具有比上述基板的外径小的第1直径的第1开口部，从上述第1开口部向外侧延伸的环面，和通过上述环面与上述第1开口部连接、并具有比上述基板外径大的第2直径的第2开口部，上述基板保持部通过上述第1开口部、上述第2开口部及上述环面形成，通过上述环面和上述基板支撑部夹持上述基板，并通过上述第2开口部限制上述基板的位置。