[发明专利]用于生成交替射频电磁场的设备、控制方法以及使用此设备的车间

说明书

一种用于在工作区域(3)中生成交替射频电磁场的设备，包括：敷料器(2)，用于在工作区域(3)中发射电磁场、振荡器(4)，用于将具有预定值和预定频率的交流电压(V_RF)和交流电流(I_RF)提供到敷料器(2)、电源装置(5)，用于将实质DC电压(V_CC)提供到振荡器(4)、控制装置(6)，与所述电源装置(5)关联用于通过振荡器(4)控制提供到所述敷料器(2)的AC电压、AC电流和/或频率的电参数。控制装置(6)包括与电力网络(N)连接的输入端口(7)、被连接到输入端口(7)以实质上瞬时地改变电参数并且瞬时地控制场发射功率的第一电子控制电路(8)、用于调控振荡器(4)的操作的第二电子控制电路(10)。第一电子电路(8)具有连接到电源装置(5)的输出(9)。车间包括设备和用于设备的控制方法。

技术领域

本发明通常在射频处理系统的领域得到应用，并且特别地涉及用于生成交替射频电磁场的设备。

本发明还涉及控制用于生成交替射频电磁场的设备的方法，以及包括如此发生器设备的产品处理车间(plant)。

背景技术

已知用于通过应用和使用具有各种频率的交替电磁场来处理并调节各种类型的产品的车间。

特别地，车间被已知为使用运行于微波或射频范围的电磁场运行，并且用于干燥相对湿的产品，诸如皮革和涂剂产品。

电磁场还被用在食品加工产业，例如用于对包括牛奶的产品或蛋类的产品的巴氏杀菌并且通常用于任何食品产品的调节和/或卫生处理。

申请人由此制造并销售使用交替射频电磁场的处理车间，如此车间基本地包括将电压供应到具有一对电极的敷料器(applicator)的电压发生器，这些电极用于生产通过其将要被处理的产品设计为穿过的电磁场。

敷料器还包括电容器，其与电极电连接并且具有一对对置盘(opposed plates)。在盘之间的距离可以被机械地调整以改变电容器的电容，从而改变向电极供应的电压，并且相应地改变电磁场发射功率。

对于功率调整，可以改变通过在要被处理的产品上的电磁场所生成的热温度。

虽然此方案已经表现了显著的效果以及可靠性，但其仍容许改进，即涉及电磁场功率的调控。

用于改变场功率的电容器的盘的机械运动具有相对长的响应时间，其不允许瞬时操作温度适应。

代表最接近的现有技术的US2640908公开了包括具有权利要求1的前序部分的特性的一对电极的振动器。

发明内容

本发明的目的是通过提供用于应用射频电磁场的、高效率并且相对高成效的设备来消除上面的缺陷。

特别目的是提供一种用于应用射频(RF)电磁场的设备，当通常在用于产品的RF处理的车间中被使用时，允许产品处理温度的快速和动态调控。

另外的目的是提供一种用于应用RF电磁场的设备，以通过阻止意外的放电的生成来确保高安全。

另一个目的是提供一种通过应用RF电磁场来处理产品的车间，以允许产品的高效处理而无需影响它们的内在属性。

本发明的另一个重要的目的是提供控制产品的RF处理的车间的方法，其允许快速和立即调整车间的一个或多个控制参数。

如以下所较好说明的，通过如权利要求1中所定义的生成用于交替电磁场的设备来满足这些以及其他目标。

控制装置包括连接到电力网络的输入，被连接到所述输入的第一电子控制电路用于如此电参数的实质瞬时改变以及场发射功率的瞬时控制，第二电子控制电路用于调控如此振荡器的运行，其中第一电子电路具有连接到如此的电源装置的输出。