[发明专利]光纤以及使用光纤的光纤激光装置在审
申请号: | 201380053864.3 | 申请日: | 2013-09-25 |
公开(公告)号: | CN104718474A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 柏木正浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社藤仓 |
主分类号: | G02B6/036 | 分类号: | G02B6/036;G02B6/024;H01S3/067 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;舒艳君 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光纤 以及 使用 激光 装置 | ||
1.一种光纤,其是至少以LP01模以及LP02模传播规定波长的光的光纤,其特征在于,
在包层中的传播所述规定波长的光的导波区域的至少一部分、以及纤芯中的所述LP01模的光的强度比所述LP02模的光的强度大的区域,分别添加使杨氏模量变化的掺杂剂,
所述包层的所述导波区域的至少一部分的杨氏模量,比所述纤芯中的所述LP01模的光的强度比所述LP02模的光的强度大的区域的杨氏模量小。
2.根据权利要求1所述的光纤,其特征在于,
在所述包层的全部的所述导波区域添加使杨氏模量变化的掺杂剂,
所述包层的全部的所述导波区域的杨氏模量,比所述纤芯中的所述LP01模的光的强度比所述LP02模的光的强度大的区域的杨氏模量小。
3.根据权利要求1或2所述的光纤,其特征在于,
所述包层的所述导波区域中的、杨氏模量比所述LP01模的光的强度大于所述LP02模的光的强度的区域的杨氏模量小的区域的杨氏模量,比所述纤芯的所述LP02模的光的强度大于所述LP01模的光的强度的区域中的、较所述LP01模的光的强度大于所述LP02模的光的强度的区域更靠外周侧的区域的杨氏模量小。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光纤,其特征在于,
所述包层的所述导波区域中的、杨氏模量比所述LP01模的光的强度大于所述LP02模的光的强度的区域的杨氏模量小的的区域的杨氏模量,比所述包层的较所述导波区域更靠外周侧的区域的杨氏模量小。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的光纤,其特征在于,
所述包层的折射率在径向上保持恒定。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光纤,其特征在于,
在所述包层的所述导波区域中的、杨氏模量比所述LP01模的光的强度大于所述LP02模的光的强度的区域的杨氏模量小的区域,共添加有使折射率降低并且使杨氏模量减小的掺杂剂、和使折射率增大并且使杨氏模量减小的掺杂剂。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的光纤,其特征在于,
在所述纤芯添加受激发射出所述规定波长的光的活性元素。
8.根据权利要求7所述的光纤,其特征在于,
在所述包层内设置有隔着所述纤芯的一对应力施加部。
9.一种光纤激光装置,其特征在于,具备:
权利要求7或8所述的光纤;
种子光源,其射出要入射于所述纤芯的所述规定波长的种子光;以及
激励光源,其将激励所述活性元素的激励光射出。
10.根据权利要求9所述的光纤激光装置,其特征在于,
所述种子光仅激励所述光纤的轴对称的模。
11.一种光纤激光装置,其特征在于,具备:
权利要求7或8所述的光纤;
激励光源,其将激励所述活性元素的激励光射出;
第一FBG,其设置于所述光纤的一侧,并将由所述激励光激励的所述活性元素所释放的光中的、所述规定波长的光反射;以及
第二FBG,其设置于所述光纤的另一侧,并将波长与所述第一FBG所反射的光相同的光以比所述第一FBG低的反射率反射。
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