[发明专利]在光学正面的公共电极和相反的背面的电接触部分之间形成导电连接

权利要求书

1.一种用于层压至包括光学有源层的光学介质部件的控制部件的制造方法，所述控制部件包括像素电极的阵列和用于控制所述像素电极的阵列处的电位的电子开关器件的阵列，以及用于到所述光学介质部件的公共电极的导电连接的接触元件；其中所述控制部件包括上导体层和下导体层，其中所述上导体层限定所述电子开关器件的阵列的栅电极，并且所述下导体层限定所述电子开关器件的阵列的源电极和漏电极以及所述接触元件；所述方法包括：在所述电子开关器件的阵列和所述接触元件之上淀积一个或多个绝缘层；以及至少穿过所述一个或多个绝缘层，形成用于所述电子开关器件和所述像素电极阵列的相应的像素电极之间的导电连接的通孔(a)，以及形成一个或多个通孔(b)，所述一个或多个通孔(b)横向置于所述光学有源层的横向边缘之外并且向下延伸至所述下导体层用于所述接触元件和所述光学介质部件的在所述光学有源层的所述横向边缘之外的所述公共电极之间的导电连接；以及随后淀积导电材料来填充所述通孔(a)并且将所述一个或多个通孔(b)向下填充至所述接触元件。

2.根据权利要求1所述的方法，其中淀积所述导电材料来填充所述通孔(a)和所述一个或多个通孔(b)还包括：在所述一个或多个绝缘层的上表面上形成导电材料的层，所述导电材料的层通过所述通孔(a)向下延伸至所述漏电极以及通过所述一个或多个通孔(b)向下延伸至所述接触元件；以及对所述导电材料的层进行图案化，从而限定所述像素电极的阵列，以及限定导电连接至所述接触元件并与所述像素电极的阵列电隔离的导电元件。

3.一种光学装置制造方法，包括：将光学介质部件层压到根据权利要求2制造的控制部件，其中，所述层压包括在所述导电元件和所述光学介质部件的公共电极之间插入导电垫和/或导电粘合剂。

4.一种光学装置制造方法，其中所述淀积所述导电材料来填充所述一个或多个通孔(b)包括：在根据权利要求1制造的控制部件的绝缘层的上表面上形成通过所述一个或多个通孔(b)向下延伸至所述接触元件的导电粘合剂层；以及将光学介质部件层压至所述控制部件，其中，所述层压包括在所述导电粘合剂层和所述光学介质部件的公共电极之间插入导电垫，或者使所述导电粘合剂层与所述光学介质部件的所述公共电极直接接触。

5.一种用于层压至包括光学有源层的光学介质部件的控制部件，其中，所述控制部件包括像素电极的阵列和用于控制所述像素电极阵列处的电位的电子开关器件的阵列，以及用于到所述光学介质部件的公共电极的导电连接的接触元件，其中所述控制部件包括上导体层和下导体层，其中所述上导体层限定所述电子开关器件的阵列的栅电极，并且所述下导体层限定所述电子开关器件的阵列的源电极和漏电极以及所述接触元件；其中，所述控制部件还包括在所述电子开关器件的阵列和所述接触元件两者之上形成的一个或多个绝缘层；以及在所述一个或多个绝缘层之上的进一步图案化的导体层，其中所述进一步图案化的导体层限定所述像素电极的阵列，通过通孔(a)向下延伸至所述漏电极，以及还通过横向置于所述光学介质部件的所述光学有源层的横向边缘之外的一个或多个通孔(b)向下延伸至所述接触元件。

6.一种显示装置，包括根据权利要求5所述的控制部件和层压至所述控制部件的光学介质部件；以及插入在所述光学介质部件的所述公共电极和与所述接触元件接触并与所述像素电极的阵列隔离的所述进一步图案化的导体层的一部分之间的导电垫和/或导电粘合剂。

7.一种用于层压至光学介质部件的控制部件，其中，所述控制部件包括像素电极的阵列和用于控制所述像素电极阵列处的电位的电子开关器件的阵列，以及用于到所述光学介质部件的公共电极的导电连接的接触元件，其中所述控制部件包括上导体层和下导体层，其中所述上导体层限定所述电子开关器件的阵列的栅电极，并且所述下导体层限定所述电子开关器件的阵列的源电极和漏电极以及所述接触元件；其中，所述控制部件还包括在所述电子开关器件的阵列和所述接触元件两者之上形成的一个或多个绝缘层；以及在所述一个或多个绝缘层之上的进一步图案化的导体层，其中所述导体层限定所述像素电极的阵列，并且通过通孔(a)向下延伸至所述漏电极；以及处于所述一个或多个绝缘层之上的导电粘合剂材料的上层，其中，所述导电粘合剂材料的上层通过一个或多个通孔(b)向下延伸至所述接触元件并提供：与所述像素电极的阵列共面但是与所述像素电极阵列电隔离的导电元件。

8.一种显示装置，包括根据权利要求7所述的控制部件和层压至所述控制部件的光学介质部件；以及插入在所述导电元件和所述光学介质部件的公共电极之间的导电垫。