[发明专利]电化学沉积和x射线荧光光谱测定

权利要求书

1.一种系统，包括：

X射线荧光光谱仪；以及

用于所述x射线荧光(XRF)光谱仪的样本支架，

其中，所述样本支架包括：

提供正表面的导电合成金刚石电极，化学物类能够被从包括所述化学物类的溶液中电沉积到所述正表面上；

设置在所述导电合成金刚石电极的背面上的欧姆接触；以及

连接至所述欧姆接触的电连接器，并且

其中，所述x射线荧光光谱仪包括：

XRF样本台，其被配置为容纳所述样本支架；

x射线源，其被配置为在所述样本支架被安装到所述XRF样本台上时将x射线激励射束施加至电沉积在所述导电合成金刚石电极上的所述化学物类；

x射线探测器，其被配置为在所述样本支架被安装到所述XRF样本台时接收由电沉积在所述导电合成金刚石材料的所述正表面上的所述化学物类发射的x射线；以及

处理器，被配置为基于由所述x射线探测器接收到的所述x射线生成x射线荧光光谱数据。

2.根据权利要求1所述的系统，还包括电沉积设备，所述电沉积设备包括：

电沉积样本台，其被配置为容纳所述样本支架；

具有电连接器的电控制器，所述电连接器被配置为连接至所述样本支架的所述电连接器，

其中，所述电控制器被配置为在所述样本支架被安装到所述电沉积样本台上、电连接至所述电控制器并且暴露至包括所述化学物类的所述溶液时将所述化学物类电沉积到所述导电合成金刚石电极的所述正表面上。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述电控制器还被配置为将电沉积化学物类从所述导电合成金刚石电极溶出。

4.根据权利要求3所述的系统，其中所述电控制器被配置为测量所述电沉积化学物类的溶出过程中的电流或电荷，由此生成所述电沉积化学物类的伏安法数据。

5.根据权利要求4所述的系统，还包括处理器，其被配置为接收来自所述x射线荧光光谱仪的x射线荧光光谱数据、来自所述电沉积设备的伏安法数据，且被配置为对所述x射线荧光光谱数据和所述伏安法数据进行处理，以确定所述溶液中的化学物类的类型和量。

6.根据前述权利要求的任一项所述的系统，还包括溶液支架，其被配置为含有所述溶液并使所述溶液位于所述导电合成金刚石电极的所述正表面上。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述样本支架包括所述溶液支架，所述溶液支架被安装在所述样本支架上以形成容器，所述容器被配置为含有所述溶液并使所述溶液位于所述导电合成金刚石电极的所述正表面上。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述电沉积设备包括所述溶液支架，所述溶液支架被安装在所述电沉积样本台上以形成容器，所述容器被配置为在所述样本支架被安装到所述电沉积样本台上时含有所述溶液并使所述溶液位于所述导电合成金刚石电极的所述正表面上。

9.根据权利要求7或8所述的系统，其中所述溶液支架可以以可拆卸的方式安装到所述样本支架或者所述电沉积样本台上。

10.根据前述权利要求的任一项所述的系统，其中所述样本支架包括电绝缘合成金刚石支持矩阵，所述导电合成金刚石电极被设置到所述电绝缘合成金刚石支持矩阵内。

11.根据前述权利要求的任一项所述的系统，其中所述样本支架包括至少两个导电合成金刚石电极，所述至少两个导电合成金刚石电极包括至少一个第一电极，所述至少一个第一电极位于在所述样本支架被安装到所述XRF样本台时暴露至所述x射线激励射束的区域内。

12.根据权利要求11所述的系统，其中所述至少两个导电合成金刚石电极包括至少一个第二电极，所述至少一个第二电极位于在所述样本支架被安装至所述XRF样本台时暴露至所述x射线激励射束的区域的外面。

13.根据权利要求12所述的系统，其中所述至少一个第二电极具有围绕所述至少一个第一电极设置的环形的形式。

14.根据前述权利要求的任一项所述的系统，其中所述样本支架还包括围绕所述样本支架的周缘区域的电绝缘座架。

15.根据权利要求14所述的系统，其中所述电绝缘座架具有聚合物或陶瓷环的形式，所述导电合成金刚石电极被安装到所述聚合物或陶瓷环内。