[发明专利]用于保护玻璃表面的物理气相沉积的层

权利要求书

1.一种形成耐划伤性玻璃制品的方法，该方法包括：

提供具有相对的主表面的玻璃基材；以及

在大部分的第一主要表面上形成耐划伤性的无机的光学透明层，其中所述形成方法包括将所述玻璃基材加热至100℃到低于300℃的温度，所述玻璃基材包括化学强化的玻璃；和所述无机的光学透明层以与所述玻璃基材直接物理接触的方式形成；

其中，所述无机层的硬度比所述玻璃基材的硬度大至少10％。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成方法包括反应性溅射或者非反应性溅射、电子束蒸发、化学气相沉积或等离子体增强的化学气相沉积。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用1-600分钟的沉积时间、和0.1毫托至100托的加工压力中的一种或多种来形成所述无机层。

4.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述无机层的厚度范围为10纳米至2微米。

5.一种耐划伤性玻璃制品，其包含：

具有相对的主表面的玻璃基材；以及

在大部分的第一主表面上形成的低温沉积的耐划伤性的无机光学透明层，其中，所述形成方法包括将所述玻璃基材加热至100℃到低于300℃的温度，所述玻璃基材包括化学强化的玻璃；

其中，当采用布氏压痕计和高至160mN的负荷进行划刻时，相比于没有在大部分的第一主表面上提供低温沉积的无机光学透明层的玻璃基材，所述耐划伤性玻璃制品的划痕深度减少了至少20％；和

所述无机光学透明层以与所述玻璃基材直接物理接触的方式形成，其中，所述无机层的硬度比所述玻璃基材的硬度大至少10％。

6.如权利要求5所述的耐划伤性玻璃制品，其特征在于，当采用布氏压痕计和高至160mN的负荷进行划刻时，相比于没有在大部分的第一主表面上提供低温沉积的无机光学透明层的玻璃基材，所述耐划伤性玻璃制品的划痕宽度还减少了至少20％。

7.如权利要求5或6所述的制品，其特征在于，所述无机层包括金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属硼化物或其组合，以及其中，所述金属选自下组：B、Al、Si、Ti、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta和W。

8.如权利要求5或6所述的制品，其特征在于，所述无机层的布氏压痕硬度至少为9GPa。