[发明专利]微多孔膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201380051492.0 申请日: 2013-10-01
公开(公告)号: CN104684633A 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 古嶋修;长迫直;山口修 申请(专利权)人: 捷恩智株式会社;捷恩智石油化学株式会社
主分类号: B01D71/34 分类号: B01D71/34;B01D69/12
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马雯雯;臧建明
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 多孔 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种微多孔膜,其作为非对称膜,包括:

表皮层,形成有微孔;以及

支撑层,支撑上述表皮层,且形成有较上述微孔大的孔穴;

上述微多孔膜的原材料为聚偏二氟乙烯系树脂,

上述表皮层具有多个球状体,多个线状的结合材自各个上述球状体向三维方向延伸,

邻接的上述球状体藉由上述线状的结合材而相互连接,从而形成以上述球状体为交点的三维网状构造。

2.如权利要求1所述的微多孔膜,其中上述球状体的粒径在平均粒径的±10%幅度的范围内具有45%以上的度数分布。

3.如权利要求1或2所述的微多孔膜,其中上述结合材的长度在平均长度的±30%幅度的范围内具有35%以上的度数分布。

4.如权利要求1~3中任一项所述的微多孔膜,其中上述球状体具有0.05μm~0.5μm的平均粒径。

5.如权利要求1~4中任一项所述的微多孔膜,其中将上述聚偏二氟乙烯系树脂溶解于良溶剂中而成的溶液中,设横轴为剪切速度且设纵轴为溶液粘度的倒数的曲线图包含在上侧具有凸出的弧的曲线。

6.如权利要求1~4中任一项所述的微多孔膜,其中对于上述聚偏二氟乙烯系树脂10重量份、聚乙二醇10重量份、二甲基乙酰胺80重量份的溶液,可利用2次函数逼近设横轴为剪切速度且设纵轴为溶液粘度的倒数的曲线图的剪切速度为每秒40以下的区域,

上述2次函数的2次系数小于10-8

7.如权利要求5或6所述的微多孔膜,其中上述聚偏二氟乙烯系树脂的重量平均分子量(Mw)为60万~120万。

8.如权利要求1~7中任一项所述的微多孔膜,其中

上述表皮层的厚度为0.5μm~10μm,

上述支撑层的厚度为20μm~500μm。

9.如权利要求1~8中任一项所述的微多孔膜,其包括支撑上述支撑层的基材层。

10.一种微多孔膜的制造方法,上述微多孔膜是如权利要求1~8中任一项所述的微多孔膜,且该微多孔膜的制造方法包括:

涂布步骤,将使上述聚偏二氟乙烯系树脂溶解于良溶剂中而成的原料液涂布在上述基材层上或上述支撑体上;以及

浸渍步骤,在上述涂布步骤后,将上述基材层或上述支撑体、及所涂布的上述原料液浸渍于非溶剂中。

11.一种微多孔膜的制造方法,其包括:

涂布步骤,将使聚偏二氟乙烯系树脂溶解于良溶剂中而成的原料液涂布在基材层上或支撑体上;以及

浸渍步骤,在上述涂布步骤后,将上述基材层或上述支撑体、及所涂布的上述原料液浸渍于非溶剂中;并且

上述原料液中,设横轴为剪切速度且设纵轴为溶液粘度的倒数的曲线图包含在上侧具有凸出的弧的曲线。

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