[发明专利]平衡校正用支承装置有效
| 申请号: | 201380051020.5 | 申请日: | 2013-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN104769404B | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
| 发明(设计)人: | 藤牧健;宫原和昌;霜仓宜夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社IHI回转机械 |
| 主分类号: | G01M1/04 | 分类号: | G01M1/04;G01M1/16 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 陈蕴辉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 平衡 校正 支承 装置 | ||
1.一种平衡校正用支承装置,由如下结构构成:所述平衡校正用支承装置具有被旋转体和立式的心轴,所述被旋转体在旋转中心部具有截面呈圆形的支承孔且该支承孔的端侧由多边形的截面形状形成,通过将所述立式的心轴插入所述支承孔,所述被旋转体从铅垂方向被安装;在所述心轴的外周面,具有旋转自如地承接所述支承孔的截面呈圆形的内面的静压气体向心轴承,在所述心轴的基端侧,具有旋转自如地承接所述支承孔的下端的开口周围的静压气体推力轴承;使静压气体轴承用的压缩性流体从所述静压气体向心轴承、所述静压气体推力轴承喷出,以使所述被旋转体在所述心轴的周围浮起的同时旋转自如地支承所述被旋转体,通过对浮起状态的被旋转体施加旋转力,能够进行不平衡量的计测,
所述平衡校正用支承装置的特征在于,
在所述心轴的外周面中的、与所述支承孔的多边形的截面形状部分面对的外周面部分,设置有将随着所述被旋转体的旋转而在所述多边形的截面形状部分与所述心轴的外周面之间的空间内变动的压力向外部释放的释放孔。
2.如权利要求1所述的平衡校正用支承装置,其特征在于,
所述释放孔在所述心轴的外周面沿周向设置有多个。
3.如权利要求1或2所述的平衡校正用支承装置,其特征在于,
所述释放孔是由下述的路径形成的通孔,该通孔在所述心轴中的、所述多边形的截面形状部分与所述心轴的外周面之间的空间的最下位附近具有入口,在与所述静压气体推力轴承面附近的外部面对的地点具有出口。
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