[发明专利]光学信息记录介质及其制造方法

权利要求书

1.一种光学信息记录介质，其为含有多个记录层、以及在多个记录层之间相邻设置的中间层的光学信息记录介质，

所述中间层包括粘合剂层和记录层支持层，

所述粘合剂层、所述记录层、所述记录层支持层和所述记录层依次重复设置，其特征在于，

所述记录层含有单光子吸收染料结合在高分子化合物上而成的记录材料，并且

所述粘合剂层比所述记录层更软，且所述记录层支持层与所述记录层同等硬度或者比所述记录层更硬。

2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述单光子吸收染料选自苯并三唑衍生物。

3.根据权利要求1所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述各记录层在该记录层与所述粘合剂层之间形成第1界面，在所述记录层和所述记录层支持层之间形成第2界面，并且通过所述单光子吸收染料吸收记录光所产生的热而发生变形，从而在所述第1界面处形成朝向所述粘合剂层的凸出形状而记录信息。

4.根据权利要求3所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述记录材料中所述单光子吸收染料的质量比不足50％。

5.根据权利要求3所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述记录层的厚度为50nm以上。

6.根据权利要求4所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述记录层的厚度为50nm以上。

7.根据权利要求3至6中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述粘合剂层的玻璃化转变温度低于所述记录层的玻璃化转变温度。

8.根据权利要求3至6中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述粘合剂层与所述记录层的折射率差大于所述记录层支持层与所述记录层的折射率差。

9.根据权利要求8所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述记录层支持层的折射率与所述记录层的折射率相同。

10.根据权利要求3至6中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，以变形前的所述第1界面为基准，所述凸出形状的突出在1nm～300nm的范围内。

11.根据权利要求3至6中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述中间层的厚度为2μm～20μm。

12.根据权利要求1至6中任意一项所述的光学信息记录介质，其特征在于，具有用于保护所述记录层的覆盖层。

13.根据权利要求12所述的光学信息记录介质，其特征在于，所述覆盖层的厚度为0.01mm～0.2mm。

14.一种光学信息记录介质的制造方法，其为具有多个记录层以及在所述多个记录层之间相邻设置的中间层的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，包括以下工序：

准备粘合剂层、记录层、记录层支持层和记录层依次并列设置的多层结构片材的第1工序；

将所述多层结构片材贴合在基板上，从而在所述基板上形成1个单元结构的第2工序；以及

将另一所述多层结构片材贴合在记录层上，所述记录层配置于所述第2工序所制造的单元结构的最上层，从而在所述基板上形成2个单元结构的第3工序，

所述各记录层含有单光子吸收染料结合在高分子化合物上而成的记录材料，并且

所述粘合剂层比所述记录层更软，且所述记录层支持层与所述记录层同等硬度或者比所述记录层更硬。

15.根据权利要求14所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，所述单光子吸收染料选自苯并三唑衍生物。

16.根据权利要求14或15所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，重复将另一所述多层结构片材贴合在记录层的工序，所述记录层配置于在所述基板上形成的2个单元结构的最上层。