[发明专利]光电转换元件以及光电转换元件的制造方法有效
| 申请号: | 201380049902.8 | 申请日: | 2013-09-19 | 
| 公开(公告)号: | CN104662673A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 | 
| 发明(设计)人: | 酒井敏彦;木本贤治;小出直城;山元良高 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 | 
| 主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04 | 
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 戚传江;谢丽娜 | 
| 地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光电 转换 元件 以及 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光电转换元件以及光电转换元件的制造方法。
背景技术
近年,尤其从地球环境问题的观点出发,将太阳光能直接转换为电能的太阳电池作为下一代能源的期待急剧提高。在太阳电池中,有使用了化合物半导体或者有机材料的太阳电池等各种种类的太阳电池,但当前成为主流的是使用了硅晶的太阳电池。
另外,现在,制造以及销售最多的太阳电池是在太阳光入射一侧的面即受光面和受光面的相反侧即背面分别形成了电极的结构的太阳电池。但是,这样在受光面形成了电极的情况下,由于存在电极中的太阳光的反射以及吸收,所以入射的太阳光的量减少相应于电极的面积的量。
因此,例如,如特开2005-101151号公报(专利文献1)所示,正在推进如下的太阳电池元件(异质结背接触电池)的开发:在n型的单晶硅基板的背面上,形成i型的非晶硅膜,在其上,形成n型的非晶硅膜和p型的非晶硅膜,在其上,形成了电极。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-101151号公报
发明内容
发明要解决的课题
在专利文献1中公开的太阳电池元件中,在半导体基板的受光面,形成由i型的非晶膜和反射防止膜构成的层叠结构,在受光面的相反侧的表面(以下,也记载为背面),形成由i型的非晶膜和p型的非晶膜和n型的非晶膜和电极层构成的层叠结构以及由i型的非晶膜和n型的非晶膜和电极层构成的层叠结构。即,由于在受光面和背面,层叠结构的结构大幅不同,所以在半导体基板的受光面侧和背面侧表面应力不同,担心在制造工艺中由半导体基板的翘曲等所引起的恶劣影响,难以进行太阳电池元件的薄化。
另一方面,随着太阳电池元件的普及,其制造成本的重要性逐渐提高,期待能够更加廉价地制造太阳电池的开发。此外,同时还要求转换效率的进一步的提高。
本发明是鉴于如上述的现状而完成的,其目的在于,提供一种具有高的转换效率、能够进行薄化且能够廉价地制造的光电转换元件。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题而专心研究的结果,发现了通过在半导体基板的受光面和背面中使层叠结构近似、且将反射防止膜以及电极层的导电率和透过率设为特定的关系,从而除了能够防止半导体基板的翘曲等之外,还能够提高光电转换元件的转换效率,并基于这个发现进一步专心研究而完成了本发明。
即,本发明的光电转换元件的特征在于,包括:第一导电型的半导体基板;第一导电型的第一非晶膜,设置在该半导体基板的一个表面的整个面;第一导电性氧化物层,设置在该第一非晶膜上;第一导电型的第二非晶膜,设置在该半导体基板的另一个表面的一部分;第二导电性氧化物层,设置在该第二非晶膜上;第二导电型的第三非晶膜,设置在该半导体基板的另一个表面的其他的一部分;以及第三导电性氧化物层,设置在该第三非晶膜上,该第一导电性氧化物层的导电率比该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的导电率低,该第一导电性氧化物层的透过率比该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的透过率高。
这里,优选地,上述第一导电性氧化物层、上述第二导电性氧化物层以及上述第三导电性氧化物层是由共通的元素构成的氧化物,该第二导电性氧化物层以及该第三导电性氧化物层的含氧量低于该第一导电性氧化物层的含氧量。
另外,这里,第一导电型表示p型或者n型,第二导电型表示不同于第一导电型的n型或者p型。
此外,优选地,上述共通的元素是从由铟、锡、镓、锌以及铝构成的群中选择的至少一种元素,进一步,具体而言,优选地,上述氧化物是从由铟锡氧化物、铟锌氧化物、铟镓锌氧化物以及铝锌氧化物构成的群中选择的至少一种化合物。
此外,优选地,上述第一导电性氧化物层的含氧量为33at%以上且50at%以下,上述第二导电性氧化物层以及上述第三导电性氧化物层的含氧量小于33at%。另外,“at%”表示“原子百分比(atomic percentage)”,即表示原子数浓度。
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





