[发明专利]曝光方法、平板显示器的制造方法和器件制造方法有效
申请号: | 201380049848.7 | 申请日: | 2013-08-05 |
公开(公告)号: | CN104662481B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 青木保夫;原笃史 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/677 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 方法 平板 显示器 制造 器件 | ||
技术领域
本发明涉及曝光方法、平板显示器的制造方法和器件制造方法,更具体而言,涉及使图案保持体相对于能量束而在扫描方向上相对移动的曝光方法、使用所述曝光方法的平板显示器的制造方法和使用所述曝光方法的器件制造方法。
背景技术
以往,在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子器件(微型器件)的光刻工序中,使用了如下步进-扫描式曝光装置(所谓扫描步进曝光机(也称作扫描曝光机))等:使掩模(光掩模)或掩模板(以下统称为“掩模”)和玻璃板或晶片(以下统称为“基板”)沿着规定的扫描方向(扫描方向)同步移动,并使用能量束将在掩模上形成的图案转印到基板上。
在这种曝光装置中,使用了如下掩模台装置:通过对吸附保持掩模的端部的框状的部件(称作掩模架等)进行位置控制,由此进行掩模的位置控制(参照例如专利文献1)。
此处,随着近年来的基板的大型化,掩模也存在大型化的趋势。由此,掩模的自重引起的挠曲(或振动)可能给曝光精度带来影响。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:美国专利申请公开第2008/0030702号说明书
发明内容
用于解决问题的手段
本发明是鉴于上述情况而完成的,基于第1观点,成为包含如下步骤的曝光方法:使具有规定图案的图案保持体的上表面与支承部件的下表面相对,其中,该支承部件能够以非接触方式从重力方向上侧悬垂支承该图案保持体;使所述图案保持体以非接触方式悬垂支承在所述支承部件上;使能够保持所述图案保持体的保持部件保持悬垂支承在所述支承部件上的所述图案保持体;使用所述保持部件,使所述图案保持体至少在规定的2维平面内的扫描方向上相对于能量束移动,并且,相对于所述能量束,在所述扫描方向上驱动曝光对象物体,将所述图案转印到所述曝光对象物体上;在维持所述支承部件对所述图案保持体的悬垂支承的状态下,解除所述保持部件对所述图案保持体的保持;使解除了所述保持部件的保持的所述图案保持体的上表面与所述支承部件的下表面分离。
由此,在图案保持体相对于能量束相对移动时,其上表面以非接触方式悬垂支承在支承部件上,因此,抑制了挠曲(或振动)。此外,在图案保持体悬垂支承于支承部件的状态下,进行保持部件对图案保持体的保持及该保持的解除,因此,与将图案保持体交接给直接保持部件的情况下和从保持部件直接回收图案保持体的情况相比,图案保持体的更换动作变得简单。
根据第2观点,本发明是包含如下步骤的平板显示器的制造方法:使用本发明的第1观点的曝光方法,对所述曝光对象物体进行曝光;以及对曝光后的所述曝光对象物体进行显影。
根据第3观点,本发明是包含如下步骤的器件制造方法;使用本发明的第1观点的曝光方法,对所述曝光对象物体进行曝光;以及,对曝光后的所述曝光对象物体进行显影。
附图说明
图1是概略地示出第1实施方式的液晶曝光装置的结构的图。
图2是液晶曝光装置的侧面(一部分截面)图。
图3是图1的液晶曝光装置具有的掩模台装置的正面图。
图4是图3的A-A线侧视图(从上方观察掩模台装置的图)。
图5是图3的B-B线侧视图(从下方观察掩模台装置的图)。
图6(A)和图6(B)是用于说明送入掩模时的掩模装载装置的动作的图(其1和其2)。
图7(A)~图7(C)是用于说明送入掩模时的掩模台装置的动作的图(其1~其3)。
图8(A)和图8(B)是用于说明使用第2实施方式的掩模装载装置的掩模送入动作的图(其1和其2)。
图9(A)和图9(B)是用于说明使用第2实施方式的掩模装载装置的掩模送入动作的图(其3和其4)。
图10(A)和图10(B)是用于说明使用第2实施方式的掩模装载装置的掩模送入动作的图(其5和其6)。
具体实施方式
《第1实施方式》
以下,基于图1~图7(C),对第1实施方式进行说明。
图1概略地示出了第1实施方式的液晶曝光装置10的结构。液晶曝光装置10例如是以在液晶显示装置(平板显示器)等中使用的矩形(角型)的玻璃基板P(以下简单称作基板P)为曝光对象物的步进-扫描式的投影曝光装置、即所谓扫描曝光机。
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