[发明专利]掩模版变形定量测量系统

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

照射系统，配置成调节辐射束；

支撑件，构造成保持图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束，并且图案形成装置包括多个第一特征，支撑件包括多个第二特征；

衬底台，构造成保持衬底；

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；

编码器头，配置成扫描图案形成装置的表面，以确定在沿图案形成装置的长度的第一方向上相对于与支撑件上的多个第二特征相关的第一位移的、与图案形成装置上的多个第一特征相关的第一位移和在与图案形成装置的表面基本上垂直的第二方向上相对于与支撑件上的多个第二特征相关的第二位移的、与图案形成装置上的多个第一特征相关的第二位移；以及

处理装置，用于基于与支撑件上的多个第二特征相关的第一位移和第二位移中的至少一个以及与图案形成装置上的多个第一特征相关的第一位移和第二位移生成图案形成装置的表面的变形图。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述编码器头包括二维编码器头或三维编码器头。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述二维编码器头或三维编码器头被取向成相对于扫描轴线基本上成45度。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述编码器头配置成沿第一方向扫描图案形成装置的表面，并且所述支撑件配置成沿垂直于第一和第二方向的第三方向平移图案形成装置。

5.如权利要求1所述的设备，还包括处理装置，所述处理装置配置成使用多个第一特征计算至少沿第一方向的变形。

6.如权利要求1所述的设备，其中多个第一特征包括多个特征的有序的阵列。

7.如权利要求1所述的设备，其中在图案形成装置的有效区域周围图案化多个第一特征。

8.如权利要求1所述的设备，还包括另一编码器头，配置成测量所述支撑件上的多个第二特征的至少一个位移。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述多个第二特征包括多个特征的有序的阵列。

10.如权利要求8所述的设备，其中所述处理装置配置成：

接收与多个特征相关的第一组数据；

接收与另外多个特征相关的第二组数据；以及

基于第一组数据和第二组数据之间的差异生成图案形成装置的表面的变形图。

11.如权利要求10所述的设备，其中响应于变形图的生成，第二组数据被用作参考数据。

12.如权利要求10所述的设备，其中所述处理装置还被配置成通过获取与第一组数据和第二组数据相关的多个位置的差的梯度而生成局部化的变形图。

13.如权利要求10所述的设备，其中所生成的变形图提供跨经图案形成装置的表面的至少一部分的变形的定量估计。

14.如权利要求1所述的设备，其中所述编码器头还配置成形成方向朝向图案形成装置的表面的一个或多个光学束。

15.一种设备，包括：

支撑件，构造成保持物体，其中所述物体包括多个第一特征，并且所述支撑件包括多个第二特征；

第一编码器头，配置成扫描物体的表面并且测量指示在沿物体的长度的第一方向上和在与物体的表面大体垂直的第二方向上与多个第一特征相关的变形的第一参数；

第二编码器头，配置成测量与支撑件上的多个第二特征相关的第二参数；和

处理装置，配置成基于测量的第一参数和测量的第二参数生成物体表面的变形图。

16.如权利要求15所述的设备，其中所述第一编码器头包括二维或三维编码器头。

17.如权利要求16所述的设备，其中所述二维或三维编码器头被取向成与扫描轴线成大体45度。

18.如权利要求15所述的设备，其中所述第一编码器头配置成沿第一方向扫描物体的表面并且支撑件配置成沿垂直于第一和第二方向的第三方向平移物体。

19.如权利要求15所述的设备，其中多个第一特征和多个第二特征包括多个特征的有序的阵列。