[发明专利]附载体的铜箔及用有附载体的铜箔的覆铜积层板有效
| 申请号： | 201380049406.2 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN104685109B | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | 森山晃正;永浦友太;新井英太;三木敦史 | 申请（专利权）人： | JX日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C25D7/06 | 分类号： | C25D7/06;C25D5/10;H05K3/20;H05K3/38 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 载体 铜箔 用有附 覆铜积层板 | ||
1.一种附载体的铜箔，其特征在于：在依顺序积层有载体、中间层、极薄铜层的附载体的铜箔的上述极薄铜层的表面，
具有表面处理层，该表面处理层具有：通过实施粗化处理所形成的粗化处理层、
形成在该粗化处理层上的由Ni-Co层所构成的耐热层、与
形成在该耐热层上的耐候层及防锈层，
Zn、Ni及Cr各自存在于上述耐候层及防锈层中至少一层，
上述表面处理层中的总Zn量/(总Zn量+总Ni量)为0.02以上0.35以下，上述表面处理层中的总Ni量为1600μg/dm2以下，
上述总Zn量是上述粗化处理层、上述耐热层、上述耐候层及上述防锈层中所含有的Zn的总量，
上述总Ni量是上述粗化处理层、上述耐热层、上述耐候层及上述防锈层中所含有的Ni的总量。
2.根据权利要求1所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Zn量/(总Zn量+总Ni量)为0.02以上0.23以下，上述表面处理层中的总Ni量为1150μg/dm2以下。
3.根据权利要求1所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Ni量为350～1350μg/dm2。
4.根据权利要求2所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Ni量为350～1350μg/dm2。
5.根据权利要求3所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Ni量为450～1100μg/dm2。
6.根据权利要求4所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Ni量为450～1100μg/dm2。
7.根据权利要求1所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～3200μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.4以下。
8.根据权利要求2所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～3200μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.4以下。
9.根据权利要求3所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～3200μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.4以下。
10.根据权利要求4所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～3200μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.4以下。
11.根据权利要求7所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～2500μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.0以下。
12.根据权利要求8所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～2500μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.0以下。
13.根据权利要求9所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～2500μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.0以下。
14.根据权利要求10所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Co量为770～2500μg/dm2，总Co量/(总Zn量+总Ni量)为3.0以下。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的附载体的铜箔，其中，上述表面处理层中的总Cr量为50～130μg/dm2。
16.根据权利要求1至14中任一项所述的附载体的铜箔，其中，上述粗化处理层的Ni量为50～550μg/dm2。
17.根据权利要求1至14中任一项所述的附载体的铜箔，其中，上述粗化处理层是由Co、Cu、Ni的元素所构成。
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