[发明专利]光学设备、透镜、照明设备、系统和方法有效

专利信息
申请号: 201380049132.7 申请日: 2013-09-03
公开(公告)号: CN104641265B 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: W.P.A.J.米奇伊斯;S.T.德兹瓦特;M.P.C.M.克里伊恩 申请(专利权)人: 飞利浦灯具控股公司
主分类号: G02B5/04 分类号: G02B5/04;G02B27/09
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 孙之刚,景军平
地址: 荷兰埃*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 设备 透镜 照明设备 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种包括具有多个微小尺寸刻面的第一表面的光学设备,所述微小尺寸刻面具有大于等于25μm并且小于250μm的尺寸,每一个刻面具有相应取向,所述多个刻面具有平行于所有所述相应取向的平均取向的法向矢量延伸的光轴,

其特征在于其包括形成多个刻面(15)中的刻面(16)的子集的有意义的图案(55),子集的所有刻面相互至少具有与相邻刻面的基本上相等的取向、类似的颜色、类似的标记表面、或者类似的间隔,有意义的图案被提供在光学设备的第一表面(25)上。

2.如权利要求1中要求保护的光学设备,其特征在于所述取向为倾斜角α和方位角。

3.如权利要求1中要求保护的光学设备,其特征在于所述标记表面为磨砂、刮痕、或者有棱纹的表面。

4.如权利要求1中要求保护的光学设备,其特征在于子集中的刻面数目在多个刻面的1%至15%之间。

5.如权利要求1至4中任一项中要求保护的光学设备,其特征在于每一个刻面组被布置成在光学设备的操作期间显示所显示的图案的子图案,光学设备上的相应刻面组的相对位置基本上等于所显示的图案中的相应相关联的子图案的相对位置。

6.如权利要求1至4中任一项中要求保护的光学设备(13),其特征在于其被制成单片。

7.如权利要求6中要求保护的光学设备(13),其特征在于其由箔或板制成。

8.一种包括至少一个如权利要求1至7中任一项中要求保护的光学设备(13)的透镜(43)。

9.包括至少一个光源(3)和至少一个如前述权利要求1至7中任一项中要求保护的光学设备(13)或至少一个如权利要求8中要求保护的透镜(43)的照明设备(1)。

10.如权利要求9中要求保护的照明设备(1),其特征在于照明设备为灯/反射器单元(35)、机车头灯、发光体或显示设备和/或提供有至少一个光学设备(13)或透镜(43)作为初级光学器件的LED或LED管芯(37)。

11.如权利要求9中要求保护的照明设备(1),其特征在于光源(3)在操作期间充当点光源或者充当平行光束(11)的生成器。

12.包括多个如权利要求9至11中任一项中要求保护的照明设备(1)和至少一个如权利要求1至7中任一项中要求保护的光学设备(13)或如权利要求8中要求保护的透镜(43)的系统。

13.制作如权利要求1中要求保护的光学设备(13)或相应地如权利要求8中要求保护的透镜(43)的方法,所述方法包括以下步骤:

(1)选择期望的有意义的图案(55)和要显示的图案(21),

(2)将图案划分成具有特定位置的子图案(39),

(3)确定刻面组和包括组光轴的针对刻面(27)的配置以用于将射束部分定向或重定向到子图案位置以用于形成要显示的图案并且用于形成光学设备的第一表面(25)上的水印图案(55),

(4)根据所确定的配置生成多个刻面(15)。

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