[发明专利]表面处理铝材及其制造方法

说明书

相关申请的交叉引用

本国际申请要求2012年9月21日在日本专利局提交的日本发明专利申请第2012-208423号的优先权,所述日本发明专利申请的全部内容通过引用而并入本文。

技术领域

本发明涉及表面处理铝材及其制造方法。

背景技术

以往，已知有用树脂对铝材表面进行覆盖的技术。在该技术中，需要提高铝材与覆盖其表面的树脂(以下称为覆盖树脂)的密合性，从而提议了各种方法。例如，提议了通过浸蚀而在铝材的表面形成凹凸的方法(专利文献1)、在铝材表面形成勃姆石的方法(专利文献2、3)、在铝材的表面形成微小的凹凸，并使反应性官能团存在于铝材的表面的方法(专利文献4)等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开第2002-120002号公报

专利文献2：日本特开平第5-25574号公报

专利文献3：WO1997/035716号公报

专利文献4：日本特开第2003-170531号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在专利文献1-4记载的方法中，在铝材的表面处理之后经过一段时间再进行树脂覆盖的情况下，铝材与覆盖树脂的密合性会变得不充分。

本发明的一个方面希望提供一种表面处理铝材及其制造方法，以在制造后即使在经过一段时间再进行树脂覆盖的情况下，与覆盖树脂的密合性也很高。

解决问题的技术方案

本发明第1方面的表面处理铝材具有形成有多个凹部的表面，并且所述表面覆盖有厚度5nm以上1000nm以下的水合氧化铝层，并且优选使所述多个凹部的面积为所述表面的面积的15％以上。

本发明的一个方面的表面处理铝材在形成多个凹部和水合氧化铝层后(即制造了表面处理铝材之后)，即使在经过一段时间再进行树脂覆盖的情况下，与覆盖树脂的密合性也很高。因此，不一定要在表面处理铝材的制造工序之后紧接着进行树脂覆盖工序，所以工序的自由度变高。

作为本发明第2方面的表面处理铝材，优选使所述水合氧化铝层满足以下条件1-3。在此情形下，表面处理铝材与覆盖树脂的密合性会进一步提升。

条件1：所述水合氧化铝层厚度方向上的氢浓度的数据在表面附近具有顶峰。

条件2：所述水合氧化铝层厚度方向上的铝浓度的数据具有极小值。

条件3：所述水合氧化铝层厚度方向上的氧浓度的数据具有极大值。

本发明第3方面的表面处理铝材的制造方法具有凹部形成工序和水合氧化铝层形成工序，所述凹部形成工序在铝材的表面形成多个凹部，所述水合氧化铝层形成工序在所述表面形成厚度5nm以上1000nm以下的水合氧化铝层，优选使所述凹部形成工序中形成的所述多个凹部的面积为所述表面的面积的15％以上。

并且，通过本发明制造的另一方面的表面处理铝材，制造之后即使在经过一段时间再进行树脂覆盖的情况下，与覆盖树脂的密合性也很高。因此，不一定要在表面处理铝材的制造工序之后紧接着进行树脂覆盖工序，所以工序的自由度变高。

所述水合氧化铝层形成工序例如可以为：使60℃以上的温水、沸水、以及水蒸气中的任一个与所述铝材相接触的工序。在此情形下，所制造的表面处理铝材与覆盖树脂的密合性会进一步提升。

本发明第4方面的表面处理铝材的制造方法中，优选在所述水合氧化铝层形成工序之前进行除灰工序。在此情形下，水合氧化铝层容易满足上述条件1-3，所制造的表面处理铝材与覆盖树脂的密合性会进一步提升。

附图说明

图1是表示在凹部(凹处)1进行标记的区域7的剖面图。

图2A-2D是对表面处理铝材的表面进行拍摄的、倍率250倍的SEM像。图2A是在氢氧化钠水溶液中的浸渍时间为0秒的情形下的SEM像；图2B是在氢氧化钠水溶液中的浸渍时间为60秒的情形下的SEM像；图2C是在氢氧化钠水溶液中的浸渍时间为120秒的情形下的SEM像；图2D是在氢氧化钠水溶液中的浸渍时间为300秒的情形下的SEM像。

图3是表示通过GD-OES(辉光放电光发射表面分析)取得的、膜厚方向上的铝浓度、氢浓度以及氧浓度的数据的图。

附图标记的说明

1…凹部；3…表面；5…点；7…区域

具体实施方式