[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法有效
| 申请号: | 201380048018.2 | 申请日: | 2013-10-31 |
| 公开(公告)号: | CN104641415B | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
| 发明(设计)人: | 深田顺平;吉川博则 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
| 主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;金玲 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磨削加工 玻璃基板 玻璃基板表面 固定磨粒 磁盘用 主表面 磨削 制造 表面粗糙度 金刚石粒子 高品质 润滑液 磁盘 模座 加工 粗糙 配备 | ||
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法,包括磨削加工处理,在该磨削加工处理中,使用润滑液和在磨削面上配备有包含金刚石粒子的固定磨粒的模座来磨削玻璃基板的主表面,
该磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于,
所述玻璃基板是主表面为镜面的玻璃基板,
所述磨削加工处理具有:
第一阶段,以相对于进行磨削加工的负荷高的负荷使所述玻璃基板的表面变得粗糙;以及
第二阶段,在该第一阶段之后,以相对于所述第一阶段的负荷低的负荷进行所述玻璃基板的表面的磨削加工,
使用相同的固定磨粒磨石并使用同一个装置来进行具有所述第一阶段和所述第二阶段的所述磨削加工处理,
在所述磨削加工处理中投入的所述玻璃基板的主表面的表面粗糙度以Ra计为0.05μm以下。
2.根据权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,
在设所述第一阶段中的负荷为P1(g/cm
3.根据权利要求2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,
在设维持所述第一阶段中的负荷P1的时间为t1、维持所述第二阶段中的负荷P2的时间为t2时,t1<t2。
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,
所述磨削加工处理中的加工速度为3.0μm/分钟~9.0μm/分钟。
5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,
所述第二阶段结束后的玻璃基板的表面粗糙度以Ra计为0.080μm~0.130μm。
6.一种磁盘的制造方法,其特征在于,
在通过权利要求1至5中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法制造的磁盘用玻璃基板上,至少形成磁记录层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社,未经HOYA株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380048018.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:以太网中的高阶多输入多输出
- 下一篇:包括标识的家用器具以及标识涂覆方法





