[发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法。更具体地，本发明所涉及的含氧化铈废磨料的再生方法，可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质，并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化铈再生磨料。

背景技术

通常，用作电视显像管或者液晶面板的TFT-LCD用玻璃基板等，在生产过程中会成为表面的平坦度或粗糙度等不良的状态，因而难以将母玻璃直接用作电视显像管或液晶面板用玻璃基板。尤其，对于用作液晶面板的TFT-LCD用玻璃面板，正在研究各种方法以改善产品的亮度、视角、对比度等，已知这些特性也会受到TFT-LCD用玻璃基板表面的很大影响。因此，生产玻璃基板的厂家正在努力改善玻璃基板的表面，而且使用各种玻璃基板磨料。其中，作为普通磨料广泛使用含氧化铈(CeO₂)的磨料。

然而，这种含氧化铈磨料经过一定时间的玻璃抛光过程之后，因抛光效率降低被废弃而成为废浆料。这是因为，经过一定时间的抛光过程之后，所述磨料的抛光效率降低，而且会出现磨料颗粒之间的凝聚，导致产生大量划痕的风险增高。再者，抛光过程中产生的源自抛光垫的杂质会进入磨料浆料中，从而导致产生划痕的可能性进一步增高。

因此，在抛光工艺中使用一定时间后需要废弃所述磨料，这会降低工艺效率或经济性。为此，正在研究再利用所述磨料的几种技术。

然而，对于已知的含氧化铈磨料的再利用及再生方法，由于再生的磨料颗粒的粒度分布或结晶尺寸没有得到优化，所以再生磨料的抛光率不够充分或者再生过程中产生颗粒之间的凝聚而生成大颗粒等，从而导致利用再生磨料进行研磨时产生划痕等问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质，并再生为显示出适宜的粒度分布和结晶尺寸、以及由此带来的较佳抛光率等的含氧化铈再生磨料。

本发明提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈(CeO₂)废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液；对所述含氧化铈废浆料进行清洗，以去除含氧化硅(SiO₂)杂质；对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机(Compact Di sc dreyer)进行干燥；以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂(flux)存在下，对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。

下面，详细描述根据本发明实施例的含氧化铈废磨料的再生方法。

本发明一实施例提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈废浆料溶解于包含强碱和氢氟酸的溶剂溶液；对所述含氧化铈废浆料进行清洗，以去除含氧化硅杂质；对所述清洗过的含氧化铈废浆料用CD干燥机进行干燥；以及在包含铵盐、碱金属盐、金属氧化物、金属含氧酸或碱土金属盐的助熔剂存在下，对所述废浆料以800℃以上的温度进行烧结。

在一实施例的含氧化铈废磨料的再生方法中，将源自废磨料的含氧化铈废浆料溶解于规定的溶剂溶液，藉以溶解掉源自玻璃基板等的杂质，并通过清洗去除这些杂质之后，经干燥及烧结工艺可将含氧化铈废磨料再生为再生磨料。

尤其，在一实施例的再生方法中，所述干燥工艺是在替代常规烘箱式干燥机(Oven dryer)的CD干燥机中进行的，而且在烧结工艺中，使用规定的助熔剂来进行高温烧结，从而能够使所述含氧化铈废磨料再生。

这种干燥及烧结工艺的主要目的是对为了去除所述杂质而进行的溶剂溶液处理及清洗工艺中使用的水分进行干燥，恢复再生磨料的表面状态，并进一步去除源自抛光垫或贴附垫(backpad)等的杂质或者含金属杂质等其他杂质。本发明人的实验结果表明，如上控制所述干燥及烧结工艺的条件，能够更有效地去除垫片(pad)杂质，而且使再生磨料的粒度分布及结晶尺寸得到优化，从而能够抑制再生过程中的磨料颗粒之间的凝聚以及由此导致的大颗粒生成。

进一步地，使用常规烘箱式干燥机的烘箱干燥方式作为之前步骤需要进行压滤工艺(filter press)，而作为后续步骤需要进行辊碎工艺(roll crusher)，因此可能会导致工艺费用增加以及收率降低。然而，在一实施例中，通过应用CD干燥机来替代这种烘箱干燥方式，可将几个步骤合并为一个步骤来进行处理，还可以提高收率。