[发明专利]取向材的制造方法、取向材、相位差材的制造方法及相位差材

权利要求书

1.一种取向材的制造方法，其特征在于，是具有第1取向区域和第2取向区域的取向材的制造方法，所述第1取向区域与第2取向区域中限制液晶取向的方向彼此不同，其具有下述工序：

涂膜形成工序，将固化膜形成用组合物涂布在基板上而形成涂膜，所述固化膜形成用组合物含有作为(A)成分的具有光二聚化部位和热交联部位的丙烯酸系共聚物、以及作为(B)成分的交联剂，

加热工序，将所述涂膜进行加热而在所述基板上形成固化膜，

偏光曝光工序，对所述固化膜的用于形成所述第1取向区域的第1区域和用于形成所述第2取向区域的第2区域，以不同曝光量同时照射偏光方向相同的偏光。

2.根据权利要求1所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述固化膜形成用组合物的(A)成分的光二聚化部位为肉桂酰基。

3.根据权利要求1或2所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述固化膜形成用组合物的(A)成分的热交联部位为羟基。

4.根据权利要求1所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述固化膜形成用组合物的(B)成分的交联剂为具有羟甲基或烷氧基羟甲基的交联剂。

5.根据权利要求1所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述固化膜为根据偏光曝光工序的曝光量不同而限制液晶取向的方向不同的膜。

6.根据权利要求1所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述固化膜为以比成为基准的光量多的偏光曝光量照射时和以比成为基准的光量少的偏光曝光量照射时，限制液晶取向的方向不同的膜。

7.根据权利要求1所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述偏光曝光工序使用具有透射区域和透光率比该透射区域低的半透射区域而形成的光掩模来进行，使得所述第1区域与所述第2区域的偏光曝光量不同。

8.根据权利要求1所述的取向材的制造方法，其特征在于，所述固化膜形成用组合物含有低分子取向成分作为(D)成分。

9.一种取向材，其特征在于，是通过权利要求1～8的任一项所述的取向材的制造方法来获得的。

10.一种相位差材的制造方法，其特征在于，使用权利要求9所述的取向材。

11.一种相位差材，其特征在于，是通过权利要求10所述的相位差材的制造方法来获得的。