[发明专利]树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、用于制造电子器件的方法、电子器件和化合物

权利要求书

1.一种光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物包含由式(1)表示的化合物：

其中R₁表示取代或未取代的萘基、薁基、苊基、菲基、萉基、菲基、芴基、蒽基、芘基、苯并芘基、联苯基、吖啶基、呫吨基、咔唑基、吲哚基、苯并吡喃基、二氢萘吡喃基、苯并噻唑基、苯并唑基、苯并呋喃基、二苯并呋喃基、二氢苯并呋喃基、苯并噻吩基、二氢苯并噻吩基、色满基、硫代色满基、苯并二英基、二苯并二烷基、酚黄素基、二苯并-1,4-二噻烷基、吩噻嗪基、二苯并噻吩基，

R₂表示(n+2)价的饱和的烃基，

R₃表示(m+2)价的饱和的烃基，

R₄和R₅各自独立地表示取代基，

Q表示含有杂原子的连接基团，

m和n各自独立地表示0至12的整数，当n为2以上时，多个R₄可以是相同的或不同的，多个R₄可以相互连接与R₂一起形成非芳族环，当m为2以上时，多个R₅可以是相同的或不同的，且多个R₅可以相互连接与R₃一起形成非芳族环，且

X^-表示非亲核阴离子。

2.根据权利要求1所述的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，

其中在式(1)中，Q是选自由以下连接基团组成的组(G)中的任何一个连接基团：

其中R₆表示氢原子或取代基，

p表示0至2的整数，且

*表示连接至式(1)中的R₂或R₃的结合手。

3.根据权利要求1所述的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，

其中在式(1)中，X^-是由式(2)表示的非亲核阴离子：

其中在式(2)中，多个Xf各自独立地表示氟原子或被至少一个氟原子取代的烷基，

R₇和R₈各自独立地表示氢原子、氟原子、烷基或被至少一个氟原子取代的烷基，当存在多个R₇时，多个R₇可以是相同的或不同的，并且当存在多个R₈时，多个R₈可以是相同的或不同的，

L表示二价连接基团，并且当存在多个L时，多个L可以是相同的或不同的，

A表示含有环状结构的有机基团，

x表示1至20的整数，

y表示0至10的整数，且

z表示0至10的整数。

4.根据权利要求1所述的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，

其中，当通过(由式(1)表示的化合物中所含的全部氟原子的质量之和)/(由式(1)表示的化合物中所含的全部原子的质量之和)计算时，由式(1)表示的化合物的氟含量为0.25以下。

5.根据权利要求1所述的光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物，

其中在式(1)中，R₁表示萘基。