[发明专利]制备烯基卤代硅烷的方法和对其合适的反应器

权利要求书

1.制备烯基卤代硅烷的方法，该方法通过使选自乙烯基卤、偏二卤乙烯或者烯丙基卤的烯基卤与选自单卤代硅烷、双卤代硅烷或者三卤代硅烷的卤代硅烷以气相形式在反应器中反应，该反应器包括在管的一端配有入口（2）和在管的另一端配有出口（3）的反应管（1）以及具有气体导入装置（4），该气体导入装置具有多个在反应管（1）纵轴方向上彼此间隔和导入反应管（1）的进气位点（5），其中单卤代硅烷、双卤代硅烷或者三卤代硅烷通过入口（2）导入反应管（1）并且通过反应管（1）流向出口（3）方向，和其中乙烯基卤、偏二卤乙烯或者烯丙基卤通过进气位点（5）分区地导入反应管（1）内部的气流中。

2.根据权利要求1的方法，其特征在于，使用的烯基卤是乙烯基氯、乙烯基溴、偏二氯乙烯、偏二溴乙烯、烯丙基氯或者烯丙基溴，特别是乙烯基氯或者烯丙基氯，并且使用的卤代硅烷是二氯硅烷或三氯硅烷或者二溴硅烷或三溴硅烷，优选二氯硅烷或者三氯硅烷。

3.根据权利要求1的方法，其特征在于，使用的烯基卤是乙烯基氯或者烯丙基氯，并且使用的卤代硅烷是三氯硅烷。

4.根据权利要求1的方法，其特征在于，在入口（2）处只导入单卤代硅烷、双卤代硅烷或者三卤代硅烷，而将烯基卤跨反应管（1）的长度在多个位置分散地导入到在反应管（1）内部流动的气体混合物中，特别地以主流动方向进料。

5.根据权利要求1的方法， 其特征在于，所述烯基卤通过气体导入装置（4）通过二至十个，优选地通过三至六个进气位点（5）导入到所述管状反应器的中心，其中第一个进气位点（5）与入口（2）之间的距离为20 mm至1000 mm。

6.根据权利要求5的方法，其特征在于，两个进气位点（5）之间的距离为100 mm至2000 mm，并且进气位点（5）优选地等距排列。

7.根据权利要求1的方法，其特征在于，在气体导入装置（4）处设置工具，用其可以改变所述烯基卤在进气位点（5）的流量。

8.根据权利要求7 的方法，其特征在于，所述烯基卤的流量在不同的进气位点（5）之间均匀分配或者所述烯基卤的流量在不同的进气位点（5）之间任意改变，其中每个进气位点（5）选择烯基卤/（n?5）的流量作为最小量，其中每个进气位点（5）选择烯基卤/（n??）的流量作为最大量，其中n表示所述反应器中进气位点（5）的总数，n≥2。

9.根据权利要求1的方法，其特征在于，单卤代硅烷、双卤代硅烷或者三卤代硅烷与烯基卤的用量比为1.0至10 mol:mol，优选为2.0至4.0 mol:mol。

10.根据权利要求1的方法，其特征在于，在反应管（1）的产物侧的一端，用液体粗产物冷激所述热反应混合物。

11.根据权利要求1的方法，其特征在于，在反应管（1）内部的温度为400至700℃，优选为500至650℃。

12.根据权利要求1的方法，其特征在于，在反应管（1）内部的压力为 1.0至2.0 bar abs，优选为1.0至1.5 bar abs。

13.根据权利要求1的方法，其特征在于，烯基卤在进气位点（5）的分流量各自通过温度-调节回路来控制。

14.根据权利要求1的方法，其特征在于，所述反应混合物在所述反应器中从第一进气位点（5）至出口（3）的停留时间为0.5至10 sec，优选为1.5至4 sec。

15.用于气相反应的反应器，其特征在于存在至少下列元件：

A) 反应管（1），其具有

B) 在管一侧的入口（2），

C) 在管另一侧的出口（3），以及

D) 具有气体导入装置（4），其具有多个在反应管（1）纵轴方向上彼此间隔和导入反应管（1）的进气位点（5）。

16.根据权利要求15的反应器，其特征在于，在气体导入装置（4）处设置工具，用其可以改变所述气体在进气位点（5）的流量。

17.根据权利要求15的反应器，其特征在于，紧接着入口（2）存在预热区（6），在其中将反应物（7）加热至所需的反应温度。