[发明专利]用于提供具有预定的目标射线分布的电磁射线的装置和用于制造透镜布置的方法有效
申请号: | 201380035726.2 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN104428695B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 斯特凡·马尔克穆斯;托比亚斯·施密特 | 申请(专利权)人: | 欧司朗有限公司 |
主分类号: | G02B3/08 | 分类号: | G02B3/08;F21K9/69;F21V5/00;G02B19/00;F21V5/04 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;李慧 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 提供 具有 预定 目标 射线 分布 电磁 装置 制造 透镜 布置 方法 | ||
1.一种用于提供具有预定的目标射线分布(12,ZS)的电磁射线的装置,具有
-透镜布置(15),其中,所述透镜布置(15)具有第一透镜(18),所述第一透镜具有第一边界面(20)和第二边界面(22),其中,所述第一边界面(20)设计成凹形的,并且所述第二边界面(20)设计成凸形的,并且其中,凹形的所述第一边界面(20)形成了第一空隙(21);并且其中所述透镜布置(15)具有第二透镜(24),所述第二透镜具有第三边界面(26)和第四边界面(28),其中,所述第三边界面(26)设计成凹形的,并且所述第四边界面(28)设计成凸形的,并且其中,凹形的所述第三边界面(26)形成了第二空隙(27),所述第一透镜(18)的至少一个部分布置在所述第二空隙中,并且具有
-用于产生具有预定的源射线分布(10,QS)的待转向电磁射线(31)的射线布置(16),其中所述射线布置(16)布置成,使得所述待转向电磁射线(31)的至少一部分经由所述第一边界面(20)入射到所述透镜布置(15)中。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,预定的所述目标射线分布(10,QS)是均匀的。
3.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述第一透镜(18)具有第一折光力,并且所述第二透镜(24)具有第二折光力,并且其中,边界面(20,22,26,28)设计成,使得折光力大小相同。
4.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述边界面(20,22,26,28)的至少一个边界面具有至少一个台阶部(29,31)。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,两个透镜(18,24)中的至少一个设计成菲涅尔透镜。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述射线布置(16)至少部分地布置在所述第一空隙(21)内。
7.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中,所述透镜布置(15)设计成,使得所述待转向电磁射线(31)的至少一部分在所述边界面(20,22,26,28)的每一个处弯折。
8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述边界面(20,22,26,28)根据所述透镜的材料的折射率设计成,使得入射的电磁射线在所述第一边界面(20)处的第一折射角(B1),所述入射的电磁射线在所述第二边界面(22)处的第二折射角(B2),所述入射的电磁射线在所述第三边界面(26)处的第三折射角(B3)和/或出射的电磁射线在所述第四边界面(28)处的第四折射角(B4)大小相同。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的装置,其中,所述射线布置(16)具有第一射线源和至少一个第二射线源,用于产生所述待转向电磁射线(31)。
10.一种用于制造透镜布置(15)的方法,其中,
-预定借助所述透镜布置(15)待转向的射线(31)的源射线分布(10,QS),
-预定从所述透镜布置(15)中的出射的电磁射线(30)的目标射线分布(12,ZS),
-根据预定的所述源射线分布(10,QS)和预定的所述目标射线分布(12,ZS)使待转向电磁射线(32)的源角度(QW)与所述出射的电磁射线(30)的目标角度(ZW)相对应,
-借助源角度(QW)和目标角度(ZW)的成对的对应,测定所述待转向电磁射线(31)必须偏转的转向角(UW),从而所述出射的电磁射线(30)具有预定的所述目标射线分布(12,ZS),并且
-根据所述源角度(QW)和相应的所述转向角(UW)测定所述透镜布置(15)的边界面(20,22,26,28)的表面轮廓(40,42,46,48)。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,均匀的射线分布预定为目标射线分布(12,ZS)。
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