[发明专利]石膏强化材料的合成及其用途有效

专利信息
申请号: 201380035416.0 申请日: 2013-06-14
公开(公告)号: CN104411654B 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: N·罗杰斯;U·珈雷;M·希纳贝克;F·迪斯克;M·布劳;L·尼克尔奥 申请(专利权)人: 巴斯夫建筑方案股份有限公司
主分类号: C04B22/14 分类号: C04B22/14;C04B28/14;C04B40/00;C01F11/46
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司11285 代理人: 苏萌,钟守期
地址: 德国特罗*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 石膏 强化 材料 合成 及其 用途
【权利要求书】:

1.一种用于制备二水合硫酸钙的方法,所述方法通过使水溶性钙化合物与水溶性硫酸盐化合物在水和含酸基的聚合物的存在下的反应进行,其特征在于含酸基的聚合物包括结构单元(I)所示的聚醚基团,

*-U-(C(O))k-X-(AlkO)n-W (I)

其中

*表示键合至含酸基的聚合物的位点,

U表示一个化学键或具有1至8个碳原子的亚烷基,

X为氧或NR1基团,

k为0或1,

n为一个整数平均值,基于含酸基的聚合物计,其在3至300的范围内,

Alk为C2-C4亚烷基,其中在(Alk-O)n基团中Alk可为相同或不同的,

W为氢、C1-C6烷基或芳基基团或为Y-F基团,其中

Y为直链或支化的具有2至8个碳原子的亚烷基且可带有一个苯环,

F为氮键合的5元至10元氮杂环,所述杂环除了氮原子和碳原子之外还可具有作为环成员的1个、2个或3个选自氧、氮和硫的杂原子,其中氮环成员可具有R2基团,且其中1个或2个碳环成员可为羰基的形式,

R1为氢、C1-C4烷基或苄基,以及

R2为氢、C1-C4烷基或苄基。

2.权利要求1的方法,其特征在于,所述聚合物的酸基为选自以下的至少一种:羧基、膦酰基、亚磺基、磺基、磺酰胺基、磺酰氧基、磺基烷氧基、亚磺基烷氧基和膦酰氧基。

3.权利要求1的方法,其特征在于,所述含酸基的聚合物为缩聚产物,其包括:

(II)具有芳族或杂芳族体系和式(I)的聚醚基团的结构单元和

(III)具有芳族或杂芳族体系的磷酸化结构单元。

4.权利要求3的方法,其特征在于,所述结构单元(II)和(III)由下面的通式表示

(II)

A-U-(C(O))k-X-(AlkO)n-W

其中

A为相同或不同的并且由在芳族体系中具有5至10个碳原子的取代或未取代的芳族或杂芳族化合物表示,其中其他基团如结构单元(I)所定义:

(III)

其中

D为相同或不同的并且由芳族体系中具有5至10个碳原子的取代或未取代的芳族或杂芳族化合物表示

其中

E为相同或不同的并且由N、NH或O表示

其中

如果E=N,则m=2,且如果E=NH或O,则m=1

其中

R3和R4为相同或不同的且各自独立地由支化或未支化的C1至C10烷基、C5至C8环烷基、芳基、杂芳基或H表示

其中

b为相同或不同的并且由0至300的整数表示。

5.权利要求3或4的方法,其特征在于,所述缩聚产物包含由下式表示的其他结构单元(IV)

(IV)

其中

Y为相同或不同的且独立地由(II)或(III)表示;

R5和R6相同或不同并且由H、CH3、COOH或取代或未取代的具有5至10个碳原子的芳族或杂芳族化合物表示。

6.权利要求1的方法,其特征在于,所述含酸基的聚合物为至少一种通过使含有以下单体的混合物聚合而获得的共聚物:

(V)至少一种烯键式不饱和单体,其包括至少一种选自以下的基团:羧酸、羧酸盐、羧酸酯、甲酰胺、羧酸酐和甲酰亚胺

(VI)至少一种具有结构单元(I)的聚醚基团的烯键式不饱和单体。

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