[发明专利]二取代硼酸衍生物的制造方法和新型二取代硼酸衍生物

说明书

技术领域

本发明涉及选择性地制造二取代硼酸衍生物的方法和新型的二取代硼酸衍生物。

背景技术

已知二取代硼酸与硼酸同样地能够用于铃木偶联反应(Suzuki-Miyaura reaction)(例如参照专利文献1～3)，特别是电气电子材料和医药领域中有用的有机合成中间体。

作为制造二取代硼酸的方法，公开了将芳香族化合物锂化、使其与硼酸三烷基酯反应的方法，例如，使用正丁基锂将2-(1,1-二甲基乙基)-5-苯基-2H-四唑锂化，使其与硼酸三甲酯反应，然后用于水解反应，从而合成双[2-[2-(1,1-二甲基乙基)-2H-四唑-5-基]苯基]二取代硼酸的方法(例如参照专利文献2)。

另外，公开了使芳香族格氏试剂与硼酸三烷基酯反应的方法，例如，使3,4-二氯苯基溴化镁与硼酸三甲酯反应，然后用酸处理，从而合成双(3,4-二氯苯基)二取代硼酸的方法(例如参照专利文献3)。该方法中公开了，使用相对于芳香族格氏试剂为1.1当量的硼酸三烷基酯时能生成硼酸，但使用0.7当量的硼酸三烷基酯时，可以以高收率得到二取代硼酸。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2011-515335号公报

专利文献2：日本特开平6-192240号公报

专利文献3：日本特表2009-526826号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，即使使用这些现有技术中公开的制造方法，二取代硼酸的收率也低至45％～57％，存在工业上无法得到满足的问题。本发明的课题在于，提供针对上述问题，可以选择性地且以高收率得到二取代硼酸衍生物、工业上能够利用的、简便的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现：通过使硼酸三叔丁酯与有机金属化合物反应，从而可以选择性地且以高收率得到二取代硼酸，从而完成了本发明。即，本发明如以下所述。

即，本发明涉及一种通式(2)所示的二取代硼酸衍生物的制造方法，其特征在于，使通式(1)所示的化合物与硼酸三叔丁酯反应，然后使反应物水解。

Ar-M  (1)

(式中，Ar为芳香烃环基或芳香族杂环基，M为Li或MgX，而且X为氯原子、溴原子或碘原子)

(式中，Ar的含义与前述相同)

另外，本发明涉及一种通式(3)所示的二取代硼酸衍生物。

[式中，Ar’为下述式所示的基团：

(此处，m为0或1，A为-O-、-S-或-NR¹-，m为0时，A可以进一步为-C(R²)₂-，R¹为氢原子、碳数1～6的烷基或芳香烃环基，R²可以相同或也可以不同，为氢原子或碳数1～6的烷基；

R为碳数1～6的烷基、碳数1～6的烷氧基或碳数3～6的环烷基，n为0～5；

为单键或双键，因此包含A的环可以为饱和或不饱和；而且，

＊为与B(硼)的原子键，其中，R和＊的取代位置不分别限定于苯环上。)]

发明的效果

根据本发明的制造方法，可以选择性地且以高收率、简便地制造特别是电气电子材料和医药领域中有用的有机合成中间体即二取代硼酸衍生物。因此，可以期待本发明的制造方法能够在工业上利用。另外，根据本发明的制造方法，可以提供目前为止完全没有被报道的、新型二取代硼酸衍生物。

附图说明

图1为实施例1中得到的双(4-二苯并呋喃)二取代硼酸的¹H-NMR谱图数据。

图2为实施例1中得到的双(4-二苯并呋喃)二取代硼酸的基于单晶X射线衍射的晶体结构解析的分子结构图(ORTEP图)。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式详细地进行说明。

＜二取代硼酸衍生物的制造方法＞

本发明如下得到通式(2)所示的二取代硼酸衍生物：使通式(1)所示的化合物与硼酸三叔丁酯反应，然后使反应物水解，从而得到。

Ar-M  (1)

(式中，Ar为芳香烃环基或芳香族杂环基，M为Li或MgX，而且X为氯原子、溴原子或碘原子)