[发明专利]取代的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)杂芳基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途无效
| 申请号： | 201380034438.5 | 申请日： | 2013-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN104411698A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | H·克罗斯;M·维切尔;T·塞茨;T·W·牛顿;L·帕尔拉帕多;K·克罗伊茨;J·赫茨勒;M·帕斯特纳克;J·莱尔希尔;R·R·埃万斯 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C07D401/12 | 分类号： | C07D401/12;C07D471/04;A01N43/40;A01N43/653;A01N43/80;C07D417/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张双双;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 取代 杂芳基羧酰胺 化合物 及其 作为 除草剂 用途 | ||
1.式I的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)杂芳基羧酰胺、其N-氧化物或可农用盐：
其中
B为N或CH；
X1为N或CR1；
X2为N或CR2；
X3为N或CR3；
X4为N或CR4；
条件是X1、X3和X4中至少一个为N；
R选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、Rb-S(O)n-C1-C3烷基、Rc-C(＝O)-C1-C3烷基、RdO-C(＝O)-C1-C3烷基、ReRfN-C(＝O)-C1-C3烷基、RgRhN-C1-C3烷基、苯基-Z和杂环基-Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；
R1选自氰基-Z1、卤素、硝基、C1-C8烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-Z1、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基、C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基-Z1、C2-C6链烯氧基、C2-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷氧基-Z1、R1b-S(O)k-Z1、苯氧基-Z1和杂环氧基-Z1，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R11取代；
R2、R3相同或不同且独立地选自氢、卤素、OH-Z2、NO2-Z2、氰基-Z2、C1-C6烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C3-C10环烷基-Z2、C3-C10环烷氧基-Z2，其中两个前述基团中的C3-C10环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基-Z2、C1-C8卤代烷氧基-Z2、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-Z2、C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基-Z2、C2-C8链烯氧基-Z2、C2-C8炔氧基-Z2、C2-C8卤代链烯氧基-Z2、C2-C8卤代炔氧基-Z2、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷氧基-Z2、(三-C1-C4烷基)甲硅烷基-Z2、R2b-S(O)k-Z2、R2c-C(＝O)-Z2、R2dO-C(＝O)-Z2、R2eR2fN-C(＝O)-Z2、R2gR2hN-Z2、苯基-Z2a和杂环基-Z2a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基-Z2a和杂环基-Z2a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R21取代；
R4选自氢、卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
R5选自氢、卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
其中对于X2＝CR2，R2与若存在的话，R3一起或者与若存在的话，R1一起还可以形成稠合5、6、7、8、9或10员碳环或稠合5、6、7、8、9或10员杂环，其中稠合杂环具有1、2、3或4个选自O、S和N的杂原子作为环成员，其中稠合碳环和稠合杂环为单环或双环的且其中稠合碳环和稠合杂环未被取代或带有1、2、3、4、5、6、7、8、9或10个基团Rq；
n为0、1或2；
k为0、1或2；
R'、R11、R21相互独立地选自卤素、NO2、CN、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7卤代环烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基和C3-C7环烷氧基，或者两个连位基团R'、R11或R21一起可以形成基团＝O(氧代)；
Z、Z1、Z2相互独立地选自共价键和C1-C4链烷二基；
Z2a选自共价键、C1-C4链烷二基、O-C1-C4链烷二基、C1-C4链烷二基-O和C1-C4链烷二基-O-C1-C4链烷二基；
Rb、R1b、R2b相互独立地选自C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Rc、R2c相互独立地选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基、苄基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基、苄基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Rd、R2d相互独立地选自C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Re、Rf相互独立地选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代，或者
Re、Rf与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N-键合杂环基团；
R2e、R2f相互独立地具有对Re、Rf所给含义；
Rg选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Rh选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、基团C(＝O)-Rk、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代，或者
Rg、Rh与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自氧代(＝O)、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N-键合杂环基团；
R2g、R2h相互独立地具有对Rg、Rh所给含义；
Rk具有对Rc所给含义；
Rq选自卤素、OH-Zq、NO2-Zq、氰基-Zq、氧代(＝O)、Rq1N＝、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4链烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基-Zq、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-Zq、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷硫基、C1-C4卤代烷氧基-Zq、C3-C10环烷基-Zq、C3-C10环烷基-Zq-O、(三-C1-C4烷基)甲硅烷基-Zq、Rq2-S(O)k-Zq、Rq3-C(＝O)-Zq、Rq4Rq5N-Zq和苯基-Zq，其中苯基-Zq中的苯基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团Rq6取代；其中
Zq具有对Z所给含义之一；
Rq1为C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基和未被取代或部分或完全被卤代的C3-C7环烷氧基；
Rq2具有对Rb所给含义之一；
Rq3具有对Rc所给含义之一；
Rq4、Rq5相互独立地具有对Rg、Rh所给含义；
Rq6具有对R'所给含义之一。
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