[发明专利]具有NaxIn1SyClz缓冲层的薄层太阳能电池的层系统有效
申请号: | 201380032809.6 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN105144401B | 公开(公告)日: | 2018-02-09 |
发明(设计)人: | T·哈普;S·约斯特;J·帕尔姆;S·波尔纳;T·达利博尔;R·迪特米勒 | 申请(专利权)人: | 蚌埠玻璃工业设计研究院 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/18;H01L31/0392 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 杜荔南,胡莉莉 |
地址: | 233018 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 na sub in cl 缓冲 薄层 太阳能电池 系统 | ||
1.用于薄层太阳能电池(100)的层系统(1),包括:
包含硫族化合物半导体的吸收层(4),
布置在吸收层(4)上的缓冲层(5),其中所述缓冲层(5)包含NaxIn1SyClz,其中
0.05≤x<0.2或者0.2<x≤0.5,
0.6≤x/z≤1.4且
1≤y≤2。
2.根据权利要求1所述的层系统(1),其中0.1≤x<0.2或者0.2<x≤0.3。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中0.8≤x/z≤1.2。
4.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中1.3≤y≤1.5。
5.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中所述缓冲层(5)具有10nm至100nm的层厚。
6.根据权利要求5所述的层系统(1),其中所述缓冲层(5)具有20nm至60nm的层厚。
7.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中所述缓冲层(5)包含≤10%原子百分比的氧份额和/或≤10%原子百分比的铜份额。
8.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中缓冲层(5)中钠和氯的份额具有非恒定的深度分布。
9.根据权利要求8所述的层系统(1),其中缓冲层(5)中钠和氯的物质量份额具有从朝向吸收层(4)的表面向缓冲层(5)内部下降的梯度。
10.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中硫族化合物半导体包含Cu2ZnSn(S,Se)4、Cu(In,Ga,Al)(S,Se)2。
11.根据权利要求10所述的层系统(1),其中硫族化合物半导体包含CuInSe2、CuInS2、Cu(In,Ga)Se2或者Cu(In,Ga)(S,Se)2。
12.薄层太阳能电池(100),包括:
衬底(2),
布置在衬底(2)上的背电极(3),
布置在背电极(3)上的根据权利要求1至11之一所述的层系统(1),以及
布置在层系统(1)上的前电极(7)。
13.根据权利要求12所述的薄层太阳能电池(100),其中第二缓冲层(6)布置在缓冲层(5)和前电极(7)之间。
14.根据权利要求13所述的薄层太阳能电池(100),其中第二缓冲层(6)包含未掺杂的氧化锌和/或未掺杂的氧化锌镁。
15.用于制造薄层太阳能电池(100)的层系统(1)的方法,具有以下步骤:
a)提供包含硫族化合物半导体的吸收层(4),并且
b)将缓冲层(5)布置在吸收层(4)上,其中所述缓冲层(5)包含NaxIn1SyClz,其中
0.05≤x<0.2或者0.2<x≤0.5,
0.6≤x/z≤1.4且
1≤y≤2。
16.根据权利要求15所述的方法,其中在步骤b)中将氯化钠和硫化铟施加到吸收层(4)上。
17.根据权利要求16所述的方法,其中在步骤b)中通过原子层沉积(ALD)、离子层气相沉积(ILGAR)、溅射热解、化学蒸汽沉积(CVD)或物理蒸汽沉积(PVD)、溅射、热蒸发或者电子射线蒸发将氯化钠和硫化铟施加到吸收层(4)上。
18.根据权利要求17所述的方法,其中在步骤b)中从单独的氯化钠源(8)和硫化铟源(9)将氯化钠和硫化铟施加到吸收层(4)上。
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