[发明专利]具有NaxIn1SyClz缓冲层的薄层太阳能电池的层系统有效

专利信息
申请号: 201380032809.6 申请日: 2013-06-19
公开(公告)号: CN105144401B 公开(公告)日: 2018-02-09
发明(设计)人: T·哈普;S·约斯特;J·帕尔姆;S·波尔纳;T·达利博尔;R·迪特米勒 申请(专利权)人: 蚌埠玻璃工业设计研究院
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/18;H01L31/0392
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 杜荔南,胡莉莉
地址: 233018 *** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 na sub in cl 缓冲 薄层 太阳能电池 系统
【权利要求书】:

1.用于薄层太阳能电池(100)的层系统(1),包括:

包含硫族化合物半导体的吸收层(4),

布置在吸收层(4)上的缓冲层(5),其中所述缓冲层(5)包含NaxIn1SyClz,其中

0.05≤x<0.2或者0.2<x≤0.5,

0.6≤x/z≤1.4且

1≤y≤2。

2.根据权利要求1所述的层系统(1),其中0.1≤x<0.2或者0.2<x≤0.3。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中0.8≤x/z≤1.2。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中1.3≤y≤1.5。

5.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中所述缓冲层(5)具有10nm至100nm的层厚。

6.根据权利要求5所述的层系统(1),其中所述缓冲层(5)具有20nm至60nm的层厚。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中所述缓冲层(5)包含≤10%原子百分比的氧份额和/或≤10%原子百分比的铜份额。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中缓冲层(5)中钠和氯的份额具有非恒定的深度分布。

9.根据权利要求8所述的层系统(1),其中缓冲层(5)中钠和氯的物质量份额具有从朝向吸收层(4)的表面向缓冲层(5)内部下降的梯度。

10.根据权利要求1或权利要求2所述的层系统(1),其中硫族化合物半导体包含Cu2ZnSn(S,Se)4、Cu(In,Ga,Al)(S,Se)2

11.根据权利要求10所述的层系统(1),其中硫族化合物半导体包含CuInSe2、CuInS2、Cu(In,Ga)Se2或者Cu(In,Ga)(S,Se)2

12.薄层太阳能电池(100),包括:

衬底(2),

布置在衬底(2)上的背电极(3),

布置在背电极(3)上的根据权利要求1至11之一所述的层系统(1),以及

布置在层系统(1)上的前电极(7)。

13.根据权利要求12所述的薄层太阳能电池(100),其中第二缓冲层(6)布置在缓冲层(5)和前电极(7)之间。

14.根据权利要求13所述的薄层太阳能电池(100),其中第二缓冲层(6)包含未掺杂的氧化锌和/或未掺杂的氧化锌镁。

15.用于制造薄层太阳能电池(100)的层系统(1)的方法,具有以下步骤:

a)提供包含硫族化合物半导体的吸收层(4),并且

b)将缓冲层(5)布置在吸收层(4)上,其中所述缓冲层(5)包含NaxIn1SyClz,其中

0.05≤x<0.2或者0.2<x≤0.5,

0.6≤x/z≤1.4且

1≤y≤2。

16.根据权利要求15所述的方法,其中在步骤b)中将氯化钠和硫化铟施加到吸收层(4)上。

17.根据权利要求16所述的方法,其中在步骤b)中通过原子层沉积(ALD)、离子层气相沉积(ILGAR)、溅射热解、化学蒸汽沉积(CVD)或物理蒸汽沉积(PVD)、溅射、热蒸发或者电子射线蒸发将氯化钠和硫化铟施加到吸收层(4)上。

18.根据权利要求17所述的方法,其中在步骤b)中从单独的氯化钠源(8)和硫化铟源(9)将氯化钠和硫化铟施加到吸收层(4)上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蚌埠玻璃工业设计研究院,未经蚌埠玻璃工业设计研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380032809.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top