[发明专利]气体阻隔膜及其制备方法

权利要求书

1.一种气体阻隔膜，其包括：

有机-无机混合涂层；

无机层；以及

包含由有机硅烷表面改性的无机纳米颗粒的保护涂层，

其依次堆叠在基材的一个或两个表面上。

2.根据权利要求1所述的膜，其满足公式1：

[公式1]

X≥48

其中，X表示通过进行网格切割测试而证实的，在85℃和85％相对湿度下，在无机层和保护涂层之间的粘合强度保持在90％以上时的时间(h)。

3.根据权利要求1所述的膜，其中，所述有机硅烷是由通式1表示的化合物：

[通式1]

R¹_mSiX_4-m

其中，X彼此相同或不同，并表示氢、卤素、具有1至12个碳原子的烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、或N(R²)₂(在此，R²为氢或具有1至12个碳原子的烷基)，

R¹彼此相同或不同，并表示具有1至12个碳原子的烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳烯基、烯芳基、芳炔基、炔芳基、或烷基羰基，且具有氨基、酰胺基、醛基、酮基、羧基、巯基、氰基、羟基、具有1至12个碳原子的烷氧基、具有1至12个碳原子的烷氧基羰基、磺酸基、磷酸基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧基或乙烯基作为取代基；以及

m是1至3的整数。

4.根据权利要求1所述的膜，其中，相对于100重量份的所述无机纳米颗粒，所述保护涂层包含10至500重量份的有机硅烷。

5.根据权利要求1所述的膜，其中，所述基材是塑料膜。

6.根据权利要求5所述的膜，其中，所述塑料膜是选自均聚物、至少一聚合物混合物、以及包含有机或无机添加物的聚合物复合材料中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的膜，其中，所述无机层包含金属氧化物或氮化物。

8.根据权利要求7所述的膜，其中，所述金属是选自Al、Zr、Ti、Hf、Ta、In、Sn、Zn和Si中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的膜，其中，所述无机纳米颗粒是选自氧化铝纳米颗粒、氧化硅纳米颗粒、氧化锌纳米颗粒、氧化锑纳米颗粒、氧化钛纳米颗粒和氧化锆纳米颗粒中的至少一种。

10.根据权利要求1所述的膜，其中，所述有机-无机混合涂层具有0.1至10μm的厚度。

11.根据权利要求1所述的膜，其中，所述无机层具有5至1000nm的厚度。

12.根据权利要求1所述的膜，其中，所述保护涂层具有0.1至10μm的厚度。

13.一种气体阻隔膜的制造方法，包括：

在基材的一个或两个表面上用溶胶型涂布组合物形成有机-无机混合涂层；

在所述有机-无机混合涂层上形成无机层；以及

在该无机层上用一溶液形成保护涂层，所述溶液是通过混合溶胶型水解溶液和包含由有机硅烷表面改性的无机纳米颗粒的溶液而制备的。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述有机硅烷是由通式1表示的气体阻隔膜：

[通式1]

R¹_mSiX_4-m

其中，X彼此相同或不同，并表示氢、卤素、具有1至12个碳原子的烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基、或N(R²)₂(在此，R²为氢或具有1至12个碳原子的烷基)，

R¹彼此相同或不同，并表示具有1至12个碳原子的烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳烯基、烯芳基、芳炔基、炔芳基、或烷基羰基，且具有氨基、酰胺基、醛基、酮基、羧基、巯基、氰基、羟基、具有1至12个碳原子的烷氧基、具有1至12个碳原子的烷氧基羰基、磺酸基、磷酸基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧基或乙烯基作为取代基；以及m是1至3的整数。

15.一种显示装置，包括：

根据权利要求1所述的气体阻隔膜。