[发明专利]使用能量的处理器具有效
申请号: | 201380029005.0 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN104334105B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 傍岛秀雄;高篠智之 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | A61B18/04 | 分类号: | A61B18/04;A61B18/12 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 能量 处理 器具 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于对处理对象的生物体组织施加能量来对该生物体组织进行处理的处理器具。
背景技术
例如在US 2006/0217709 A1、US 6,500,176 B1中公开了一种能够夹入生物体组织并进行处理的处理器具。其中,在US 6,500,176 B1中公开了电极的表面及其外侧的面形成为连续的平面。
一般来说,当用具有能够开闭的处理部的处理器具以保持着生物体组织的状态对生物体组织施加能量来对生物体组织进行处理时,会自生物体组织产生水蒸气、体液等流体。由于这种流体为高温,因此若流到处理部的外侧,则易于对生物体组织引起热损伤。因此,例如在US 2008/0195091 A1中,以包围电极等能量释放部的外缘的方式在处理部上形成了槽,使流体流入由该槽形成的空间内。
当外缘部的横向宽度较宽时,由于按压生物体组织的区域扩大,因此比外缘部的横向宽度较窄时难以产生热损伤。另一方面,若使外缘部的横向宽度变宽,则处理部能够变大。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够防止处理部的横向宽度变大、并且能够抑制周边组织的热损伤的处理器具。
本发明的一技术方案的、用于对处理对象的生物体组织施加能量来对该处理对象的生物体组织进行处理的处理器具的处理部包括:第1钳构件和第2钳构件,其为了能够保持和释放包括处理对象及其周边组织在内的生物体组织而能够彼此相对地开闭;彼此相对的一对第1保持部,其分别设于比所述第1钳构件和第2钳构件的外缘靠内侧的位置并能够保持所述处理对象的生物体组织;能量释放部,其设于所述一对第1保持部的至少一者并能够对所述处理对象的生物体组织施加用于处理的能量;以及一对第2保持部,其分别设于所述第1保持部与所述第1钳构件和第2钳构件的外缘之间,并能够以使所述处理对象的生物体组织的周边组织相对于所述处理对象的生物体组织弯曲的状态保持所述处理对象的生物体组织的周边组织。
附图说明
图1是表示第1实施方式的使用了能量的处理系统的概略图。
图2是第1实施方式的治疗处理系统的概略框图。
图3是表示来自第1实施方式的处理系统的能源的高频能量输出电路和热能输出电路的能量的输出状态的概略图。
图4A是第1实施方式的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图4B是第1实施方式的处理系统的处理器具的处理部的、图4A中用附图标记4B表示的位置的概略横剖视图。
图5A是表示用第1实施方式的处理系统的处理器具的处理部把持着处理对象的生物体组织及其周边组织的状态的概略横剖视图。
图5B是表示用第1实施方式的处理系统的处理器具的处理部把持着处理对象的生物体组织及其周边组织的状态的、图5A中用附图标记5B表示的位置的概略横剖视图。
图6A是表示第1实施方式的处理器具为双极类型的概略图。
图6B是表示第1实施方式的处理器具为单极类型的概略图。
图7是第1实施方式的第1变形例的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图8是第1实施方式的第2变形例的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图9是第1实施方式的第3变形例的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图10是第1实施方式的第4变形例的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图11是第1实施方式的第5变形例的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图12是第1实施方式的第6变形例的处理系统的处理器具的处理部的概略横剖视图。
图13是表示第2实施方式的使用了能量的处理系统的概略图。
图14A是表示将第2实施方式的处理系统的处理器具的主体侧处理部与脱离侧处理部卡合、使脱离侧处理部远离主体侧处理部并打开的状态的概略纵剖视图。
图14B是表示将第2实施方式的处理系统的处理器具的主体侧处理部与脱离侧处理部卡合、使脱离侧处理部靠近主体侧处理部的闭合状态的概略纵剖视图。
图14C是表示第2实施方式的处理系统的处理器具的主体侧处理部的表面的概略图。
图15A是第2实施方式的处理系统的处理器具的使脱离侧处理部靠近主体侧处理部的闭合状态的、图14B中用附图标记15A表示的位置的概略纵剖视图。
图15B是第2实施方式的第1变形例的处理系统的处理器具的使脱离侧处理部靠近主体侧处理部的闭合状态的、图14B中用附图标记15A表示的位置的概略纵剖视图。
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