[发明专利]有机电致发光装置有效

专利信息
申请号: 201380026785.3 申请日: 2013-05-31
公开(公告)号: CN104335378B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 朱文奎;姜旼秀;文济民;咸允慧;张星守;刘珍雅;李在仁 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;C09K11/06
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 徐金国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 电致发光 装置
【权利要求书】:

1.一种有机电致发光装置,包括:

基板;

形成于基板上的阴极;

形成于阴极上的发光层;

形成于发光层上的阳极;

形成于发光层与阴极之间的第一电荷传输通道;以及

形成于发光层与阳极之间的第二电荷传输通道;

其中,第一电荷传输通道包括:

与阴极连接且未掺杂的第一p-型有机材料层;以及

形成于第一p-型有机材料层与发光层之间的第一n-型有机材料层。

2.一种有机电致发光装置,包括:

基板;

形成于基板上的阴极;

形成于阴极上的发光层;

形成于发光层上的阳极;以及

形成于发光层与阴极之间的缓冲层,

其中,缓冲层包括:

与阴极连接且未掺杂的第一p-型有机材料层;以及

形成于第一p-型有机材料层与发光层之间的第一n-型有机材料层。

3.一种有机电致发光装置,包括:

基板;

形成于基板上的阴极;

形成于阴极上的发光层;

形成于发光层上的阳极;

形成于发光层与阴极之间且未掺杂的第一p-型有机材料层;以及

形成于发光层与第一p-型有机材料层之间的第一n-型有机材料层。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的有机电致发光装置,进一步包括:

形成于第一n-型有机材料层与发光层之间的第二n-型有机材料层。

5.根据权利要求4所述的有机电致发光装置,其中第二n-型有机材料层掺杂有n-型掺杂剂。

6.根据权利要求5所述的有机电致发光装置,进一步包括:

形成于第二n-型有机材料层与发光层之间的第三n-型有机材料层。

7.根据权利要求6所述的有机电致发光装置,其中第二n-型有机材料层的基质材料与第三n-型有机材料层的材料相同。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的有机电致发光装置,其中阴极的功函数处于第一p-型有机材料层的HOMO能级或以下。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的有机电致发光装置,其中第一p-型有机材料层的HOMO能级与第一n-型有机材料层的LUMO能级的能级差为2eV或以下。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的有机电致发光装置,其中第一n-型有机材料层包含:一种或多种选自以下的化合物:由下式2所表示的化合物、2,3,5,6-四氟-7,7,8,8-四氰基对醌二甲烷(F4TCNQ)、氟代的3,4,9,10-苝四甲酸二酐(PTCDA)、氰基取代的3,4,9,10-苝四羧酸二酐(PTCDA)、萘四甲酸二酐(NTCDA)、氟代的萘四甲酸二酐(NTCDA),以及氰基取代的萘四甲酸二酐(NTCDA):

【式2】

在式2中,R1b至R6b各自可为氢、卤素原子、氰基(-CN)、硝基(-NO2)、磺酰基(-SO2R)、亚砜基(-SOR)、磺酰胺基(-SO2NR)、磺酸酯基(-SO3R)、三氟甲基(-CF3)、酯基(-COOR)、酰胺基(-CONHR或CONRR')、取代或未取代的直链或支链的C1至C12烷氧基、取代或未取代的直链或支链的C1至C12烷基、取代或未取代的直链或支链的C2至C12烯基、取代或未取代的芳香或非芳香的杂环基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的单芳胺基或二芳胺基、或取代或未取代的芳烷基胺基,其中R和R'各自为取代或未取代的C1至C60烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的5元至7元杂环基。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的有机电致发光装置,其中阴极与第一p-型有机材料层接触。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380026785.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top