[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体有效
申请号: | 201380026259.7 | 申请日: | 2013-03-26 |
公开(公告)号: | CN104321854B | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 岩野友洋;南久贵;阿久津利明;藤崎耕司 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | H01L21/3105 | 分类号: | H01L21/3105;B24B37/04;C09K3/14;C01B33/12;C09G1/02 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人: | 杜娟 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 悬浮液 研磨 液套剂 基体 方法 | ||
1.一种悬浮液,其含有磨粒和水,所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物,并且,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上、小于1.50,所述4价金属元素是从由稀土元素及锆组成的组中所选出的至少一种。
2.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.05以上、小于1.50。
3.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.10以上、小于1.50。
4.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.15以上、小于1.50。
5.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.20以上、小于1.50。
6.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.25以上、小于1.50。
7.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。
8.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在60%/cm以上。
9.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在70%/cm以上。
10.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在80%/cm以上。
11.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在90%/cm以上。
12.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在95%/cm以上。
13.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在98%/cm以上。
14.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在99%/cm以上。
15.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在100%/cm以下。
16.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对波长290nm的光的吸光度为1.000以上。
17.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对波长290nm的光的吸光度为1.050以上。
18.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对波长290nm的光的吸光度为1.100以上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造