[发明专利]层叠体

权利要求书

1.一种层叠体，其包括基材(A)、在所述基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，

所述含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，

所述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在所述基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

2.如权利要求1所述的层叠体，其中，所述氮高浓度区域的利用X射线光电子能谱法测得的下式(1)表示的氮原子的组成比为0.01以上、1以下的范围，

式(1)：氮原子的组成比/(氧原子的组成比+氮原子的组成比)。

3.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述聚硅氮烷膜是通过利用选自棒式涂布法、辊式涂布法、凹版涂布法、喷雾涂布法、气刀涂布法、旋转涂布法、浸渍涂布法中的方法将含有聚硅氮烷的溶液涂布到所述基材(A)上而形成的。

4.如权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其中，所述聚合物层(C)是在形成于所述基材(A)上的具有所述氮高浓度区域的所述含硅层(B)上形成所述具有聚合性基团的有机酸金属盐膜，利用紫外线、电子束或热将所述有机酸金属盐膜聚合而得到的。

5.如权利要求1～4中任一项所述的层叠体，其中，所述能量射线照射是通过等离子体照射进行的。

6.如权利要求5所述的层叠体，其中，所述等离子体照射是在选自非活性气体、稀有气体或还原气体中的气氛下进行的。

7.如权利要求5或6所述的层叠体，其中，所述等离子体照射是在氧浓度为5000ppm以下、且水蒸气浓度(室温23℃下的水蒸气分压/大气压)为8400ppm以下的条件下进行的。

8.如权利要求1～7中任一项所述的层叠体，其中，所述聚硅氮烷膜是选自全氢聚硅氮烷、有机聚硅氮烷、及它们的衍生物中的1种以上。

9.如权利要求1～8中任一项所述的层叠体，其中，所述有机酸金属盐是选自羧酸、磺酸、巯基酸中的1种以上的有机酸的金属盐。

10.如权利要求1～9中任一项所述的层叠体，其中，所述聚合性基团是选自乙烯基、环氧基、巯基、脲基、硫醚基、异氰酸酯基、氨基、羟基、卤素原子、噁唑啉基、碳二亚胺基或它们的衍生物中的1种以上的聚合性基团。

11.如权利要求1～10中任一项所述的层叠体，其特征在于，形成所述有机酸金属盐的金属是选自锂、钠、镁、钙、锌及钡中的至少1种以上的金属。

12.如权利要求1～11中任一项所述的层叠体，其中，所述有机酸金属盐是具有乙烯基作为聚合性基团的羧酸化合物的金属盐。

13.如权利要求12所述的层叠体，其中，所述有机酸金属盐是选自丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、衣康酸中的有机酸的金属盐。

14.如权利要求1～11中任一项所述的层叠体，其中，所述有机酸金属盐是具有乙烯基作为聚合性基团的磺酸化合物的金属盐。

15.如权利要求14所述的层叠体，其中，所述磺酸化合物选自乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、甲基烯丙基磺酸、磺酸丙烯酸酯、磺酸丙烯酰胺、磺酸甲基丙烯酸酯、苯乙烯磺酸、异戊二烯磺酸。

16.如权利要求1～15中任一项所述的层叠体，其中，所述聚合物层(C)还包含硅烷偶联剂。

17.一种电子构件，其包括：包含选自有机电致发光元件、电子纸显示元件、液晶显示元件中的元件的构件，和以聚合物层(C)在该构件侧的方式配设的权利要求1～16中任一项所述的层叠体。