[发明专利]液晶显示装置有效
申请号: | 201380025833.7 | 申请日: | 2013-05-07 |
公开(公告)号: | CN104303101B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 岛康裕;中田央;福吉健藏 | 申请(专利权)人: | 凸版印刷株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/1343 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 白丽,陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示装置。
背景技术
液晶显示装置是薄型显示装置的一种。对于液晶显示装置而言,要求进一步的高画质化、低价格化、节电化。例如,通过对液晶显示装置所具备的滤色器进行改良,可实现更高的画质。画质例如通过实现充分的颜色纯度、高对比度、高平坦性等而得以提高。
为了对液晶显示装置进行高画质化,例如提出了VA(Vertically Alignment,垂直取向)、HAN(Hybrid-aligned Nematic,混合排列向列)、TN(Twisted Nematic,扭曲向列)、OCB(Optically Compensated Bend,光学补偿弯曲)、CPA(Continuous Pinwheel Alignment,连续焰火状排列)等那样的液晶取向方式或液晶驱动方式。通过对这些技术进行实用化,可实现液晶显示装置的广视野角及高速响应。
液晶相对于玻璃等那样的基板的平面平行地进行了取向的VA方式的液晶显示装置会实现广视野角及高速响应。HAN方式的液晶显示装置会有效地实现广视野角。但是,对于VA方式的液晶显示装置或HAN方式的液晶显示装置,关于相对于滤色器的平坦性(膜厚的均匀性及滤色器表面的凹凸的减少)和介电常数等电特性要求更高的精度。
在高画质的液晶显示装置中,为了高速响应,使液晶层的厚度(液晶单元厚度)变薄的技术是重要的。
对于VA方式,开发了MVA(Multi-Domain Vertically Alignment,多畴垂直取向)、PVA(Patterned Vertically Alignment,构型垂直取向)、VAECB(Vertically Alignment Electrically Controlled Birefringence,垂直取向电控双折射)、VAHAN(Vertical Alignment Hybrid-aligned Nematic,垂直取向混合排列向列)、VATN(Vertically Alignment Twisted Nematic,垂直取向扭曲向列)等各种各样的改良模式。
对于如VA方式等那样在液晶层的厚度方向上施加驱动电压的纵向电场方式的液晶显示装置,要求更高速的液晶响应、更广的视野角、更高的透射率。
相对于基板表面初期垂直的液晶分子在施加电压时倾倒的方向难以确定。于是,在MVA方式中,为了消除在液晶驱动的电压施加时垂直取向液晶变得不稳定,设置多个狭缝状的凸部。MVA方式中,通过在多个狭缝间形成不同取向方向的多个液晶域,可确保广的视野角。
专利文献1(日本专利第3957430号公报)公开了使用第1及第2的取向控制结构体(狭缝)来形成液晶域的技术。
专利文献2(日本特开2008-181139号公报)公开了使用光取向形成4个液晶域的技术。该专利文献2中,为了确保广视野角,需要对各个液晶域赋予严密的预倾角(距离水平方向为89度)的多次(4次)取向处理。进而,专利文献2中需要相互相差90°的多个取向轴。
专利文献3(日本特开2011-248132号公报)公开了第2电极从第1电极露出的阵列基板的电极构成。
发明内容
发明要解决的技术问题
如上所述,为垂直取向且为MVA方式的液晶显示装置中,为了确保广视野角,使用形成于滤色器上的多个狭缝来形成液晶域。狭缝形成在比滤色器更靠液晶层的一侧。位于2个树脂制狭缝之间的液晶分子在施加驱动电压之前具有相对于基板面垂直的长度方向。2个狭缝之间的液晶分子在施加驱动电压时,向垂直于2个狭缝的方向倾倒,按照与基板面变得水平的方式倾斜。但是,2个狭缝之间的中央的液晶分子在施加驱动电压时,倾倒的方向不能唯一地确定,有发生喷散取向或弯曲取向的情况。这种液晶的取向混乱成为液晶显示中的粗糙、显示不均、透射率降低的原因。
另外,在MVA方式中,难以通过驱动电压来细致地控制液晶的倾倒量。因此,MVA方式的液晶显示装置与例如被称为IPS的水平取向的液晶显示装置相比,中间色调显示的控制性差。特别是,MVA方式的驱动电压与显示(响应速度)的线性度低,难以进行低驱动电压下的中间色调显示。
专利文献2消除了上述MVA方式的多个课题。但是,专利文献2中需要利用多次曝光进行的取向处理。如专利文献2的图61所示,专利文献2中有在为了确保广视野角而形成的域内取向变得稍稍不均匀的情况。由于该不均匀,特别易于发生像素周边部处的不均。
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