[发明专利]包括干涉仪和绝对距离测量单元的激光跟踪器和用于激光跟踪器的校准方法

权利要求书

1.一种用于连续地跟踪反射目标(42、97)并且用于确定到该目标(42、97)的距离的激光跟踪器(40、90)，该激光跟踪器(40、90)包括：

·基部(92)，所述基部定义竖直轴线(94)，

·束导向单元(95)，所述束导向单元(95)用于发射测量辐射(11、41、96)并且用于接收在所述目标(42、97)处反射的所述测量辐射(11、41、96)的至少一部分，其中，所述束导向单元(95)能够以马达驱动方式相对于所述基部(92)绕所述竖直轴线(94)和与所述竖直轴线(94)大体上正交的倾斜轴线枢转，

·干涉仪(20)，所述干涉仪(20)用于使用干涉法来确定到所述目标(42、97)的所述距离的变化，其具有可调谐激光二极管(10)，该可调谐激光二极管(10)被构造成以所述测量辐射(11、41、96)是为相干且纵向单模的方式产生用于所述干涉仪(20)的所述测量辐射(11、41、96)的干涉仪激光束源，

·绝对距离测量单元(30)，所述绝对距离测量单元(30)用于确定针对到所述目标(42、97)的距离(45、46)的测量距离值，以及

·角度测量功能体，所述角度测量功能体用于确定所述束导向单元(95)相对于所述基部(92)的方位，

其特征在于

控制和评估单元(2)，该控制和评估单元(2)被构造成使得在校准模式的执行期间通过以下步骤来确定所述测量辐射(11、41、96)的干涉仪波长

·在改变到所述目标(42、97)的所述距离(45、46)的同时执行限定的样本测量，其中

o所述样本测量针对到所述目标(42、97)的至少两个不同的距离(45、46)而发生，

o所述测量辐射(11、41、96)对所述目标(42、97)连续地对准，并且在使所述干涉仪波长保持稳定的同时利用所述干涉仪(20)针对到所述目标(42、97)的所述至少两个不同的距离(45、46)中的每个来确定干涉仪输出变量，并且

o通过使用所述绝对距离测量单元(30)确定距离来提供在每种情况下针对到所述目标(42、97)的所述至少两个不同的距离(45、46)的至少两个测量距离值，以及

·至少基于所述至少两个测量距离值和分别确定的干涉仪输出变量来确定所述测量辐射(11、41、96)的干涉仪波长。

2.如权利要求1所述的激光跟踪器(40、90)，其特征在于

所述测量辐射(11、41、96)的所述干涉仪波长可通过改变至少一个工作参数改变，并且所述控制和评估单元(2)被构造成使得针对所述激光二极管(10)的所述至少一个工作参数可被精确调整使得，由于所述至少一个工作参数的所述精确调整，所述干涉仪波长是可设定成使得它是近似地已知的。

3.如权利要求2所述的激光跟踪器(40、90)，其特征在于

当执行所述校准模式时，依赖于所述近似地已知的干涉仪波长附加地确定所述测量辐射(11、41、96)的所述干涉仪波长。

4.如权利要求2或3所述的激光跟踪器(40、90)，其特征在于

所述控制和评估单元(2)被构造成使得当启动所述激光跟踪器(40、90)的操作时，针对所述激光二极管(10)的所述至少一个工作参数被设定成使得所述激光二极管(10)的先前操作状态大体上再现，具体地最后的先前操作状态大体上再现。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的激光跟踪器(40、90)，其特征在于

所述激光二极管(10)的可变温度构成所述至少一个工作参数和/或穿过所述激光二极管(10)的可变电流构成所述至少一个工作参数。

6.如权利要求2至5中任一项所述的激光跟踪器(40、90)，其特征在于

所述控制和评估单元(2)被构造成使得当正在执行测量模式时，使用所述至少一个工作参数调节所述干涉仪波长使得所述干涉仪波长保持稳定。

7.如权利要求6所述的激光跟踪器(40、90)，其特征在于

在所述控制和评估单元(2)的控制下，在正在执行所述测量模式的同时连续地执行所述校准模式，具体地其中，在所述校准模式期间确定的所述测量辐射(11、41、96)的所述干涉仪波长被存储用于执行所述测量模式。